特許
J-GLOBAL ID:200903034306593517
蛍光体及び蛍光体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西村 教光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-077823
公開番号(公開出願番号):特開平11-279550
出願日: 1998年03月25日
公開日(公表日): 1999年10月12日
要約:
【要約】【課題】粉体状のGaN蛍光体とその製造方法を提供する。【解決手段】蛍光体の製造装置1は、真空容器1と、原料ガスの導入管3と、粒子の容器4と、加熱用のランプ6と、容器4を振動させる攪拌機7を有する。原料ガスとして、TMGa(トリメチルGa)、アンモニアガス(NH3 )、DMZn(ジメチル亜鉛)、SiH4 (シラン)を用いる。粒子(粉体)として平均粒径が1μmのAlNを用いた。ランプ加熱により1020°Cに設定し、粒子上に半導体膜を成長させた。AlNの粒子の表面に形成されたGaN:Zn,Siを窒素中で700°Cでアニールし、蛍光体を得た。PLを観察したところ、青色の発光が得られた。また、これをVFD(蛍光表示管)の陽極基板に塗布して陽極電圧30Vで発光させて評価したところ、青色の発光が得られ、その時の輝度は約500cd/m2 であった。
請求項(抜粋):
粒子の表面でヘテロエピタキシャル成長したIII-V族化合物半導体微粒子又は薄膜を有する蛍光体。
IPC (2件):
FI (3件):
C09K 11/08 G
, C09K 11/08 A
, C09K 11/62
引用特許:
審査官引用 (7件)
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蛍光体
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-100215
出願人:双葉電子工業株式会社
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蛍光体及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-043032
出願人:双葉電子工業株式会社
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蛍光体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-051494
出願人:双葉電子工業株式会社
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特開平2-257679
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半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-119515
出願人:住友電気工業株式会社
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窒化物半導体レーザ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-229161
出願人:日亜化学工業株式会社
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ZnS粒子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-171045
出願人:フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ
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