光断層画像化方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：柳田征史 , 佐久間剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-288657
公開番号（公開出願番号）：特開2007-101249
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】光断層画像化装置において、測定光のスペクトル形状の乱れや、スペクトル形状並びに強度の変動が有っても、正確な断層画像を取得可能にする。【解決手段】光源111から射出された光Lを測定光L1と参照光L2とに分割する光分割手段3と、測定光L1が測定対象Sbに照射されたとき戻って来る反射光L3と参照光L2とを合波する合波手段4と、合波された反射光L3と参照光L2との干渉光L4を干渉光検出手段140と、検出された干渉光L4の周波数および強度に基づいて、測定対象Sbの複数の深さ位置における反射光の強度を検出し、その検出された各深さ位置における反射光L3の強度に基づいて測定対象Sbの断層画像を取得する画像取得手段50とを備えてなる光断層画像化装置1において、干渉光L4を検出して得た干渉信号から測定光L1のスペクトル成分を除去した補償信号を得、該信号をガウス変換して反射光L3の強度検出に供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源から射出された光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を測定対象に照射し、該測定対象からの反射光と前記参照光とを合波し、合波された前記反射光と前記参照光との干渉光を検出し、この検出された干渉光の周波数および強度に基づいて、前記測定対象の複数の深さ位置における反射光の強度を検出し、これらの各深さ位置における前記反射光の強度に基づいて測定対象の断層画像を取得する光断層画像化方法において、前記測定光のスペクトル成分を計測し、前記干渉光を検出して得た干渉信号から前記測定光のスペクトル成分を除去した補償信号を得、この補償信号をガウス変換してから、前記反射光の強度検出に供することを特徴とする光断層画像化方法。

IPC (4件)：

G01N 21/17 , A61B 10/00 , G01B 11/24 , A61B 1/00

FI (5件)：

G01N21/17 630 , G01N21/17 625 , A61B10/00 E , G01B11/24 D , A61B1/00 300D

Fターム (59件)：

2F065AA04 , 2F065AA52 , 2F065AA53 , 2F065BB05 , 2F065CC16 , 2F065FF00 , 2F065FF41 , 2F065FF51 , 2F065GG07 , 2F065GG08 , 2F065GG24 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL02 , 2F065LL15 , 2F065LL42 , 2F065LL67 , 2F065MM14 , 2F065MM15 , 2F065NN06 , 2F065QQ16 , 2F065QQ23 , 2F065QQ26 , 2F065SS02 , 2F065SS13 , 2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059EE11 , 2G059EE12 , 2G059FF02 , 2G059GG10 , 2G059HH01 , 2G059JJ01 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ15 , 2G059JJ17 , 2G059JJ22 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059MM02 , 2G059MM09 , 2G059MM10 , 2G059PP04 , 4C061AA00 , 4C061BB07 , 4C061CC06 , 4C061DD00 , 4C061FF47 , 4C061HH51 , 4C061MM10 , 4C061NN01 , 4C061NN05 , 4C061QQ09 , 4C061RR18 , 4C061WW11

引用特許：

出願人引用 (2件)

光断層イメージング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-319850 出願人：オリンパス光学工業株式会社
光イメージング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-339787 出願人：オリンパス光学工業株式会社

審査官引用 (1件)

偏光感受型光スペクトル干渉コヒーレンストモグラフィー装置及び該装置による試料内部の偏光情報の測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-217274 出願人：株式会社筑波リエゾン研究所

引用文献：

審査官引用 (2件)

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