特許

J-GLOBAL ID：200903034370395265

薄膜パターン形成方法、デバイスとその製造方法、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、アクティブマトリクス基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器

発明者： 牛山 敏寛 ,  平井 利充 ,  御子柴 俊明 ,  木口 浩史 ,  長谷井 宏宣
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-103418
公開番号（公開出願番号）：特開2005-013984
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】 薄型化を実現する。【解決手段】 機能液を基板P上に塗布して薄膜パターン33を形成する。基板Pに薄膜パターン33に応じた凹部32を形成する工程と、凹部32に機能液を塗布する工程とを有する。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

機能液を基板上に塗布して薄膜パターンを形成する方法であって、 前記基板に前記薄膜パターンに応じた凹部を形成する工程と、 前記凹部に前記機能液を塗布する工程とを有することを特徴とする薄膜パターン形成方法。

IPC (9件)：

B05D1/26 ,  B05D5/12 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/027 ,  H01L21/288 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

FI (13件)：

B05D1/26 Z ,  B05D5/12 B ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/288 Z ,  H01L21/88 B ,  H01L29/78 612C ,  H01L29/78 612D ,  H01L29/78 626C ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/78 617J ,  H01L21/30 564Z

Fターム (122件)：

2H092GA24 ,  2H092GA32 ,  2H092HA06 ,  2H092HA19 ,  2H092HA20 ,  2H092JA24 ,  2H092JA37 ,  2H092JA41 ,  2H092JB21 ,  2H092KA18 ,  2H092KA20 ,  2H092KB04 ,  2H092KB06 ,  2H092NA01 ,  2H092NA25 ,  2H092PA01 ,  4D075AC06 ,  4D075AC09 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075AE04 ,  4D075BB20Y ,  4D075BB45Y ,  4D075BB65Y ,  4D075CA13 ,  4D075CA22 ,  4D075CA36 ,  4D075CB08 ,  4D075DA06 ,  4D075DA32 ,  4D075DB13 ,  4D075DC19 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA07 ,  4D075EA10 ,  4D075EA45 ,  4D075EB13 ,  4D075EB16 ,  4D075EB22 ,  4D075EB39 ,  4D075EB43 ,  4D075EC07 ,  4D075EC10 ,  4M104AA01 ,  4M104AA09 ,  4M104AA10 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB28 ,  4M104CC01 ,  4M104CC05 ,  4M104DD51 ,  4M104DD61 ,  4M104DD79 ,  4M104GG20 ,  5F033HH07 ,  5F033HH08 ,  5F033HH11 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033HH28 ,  5F033HH35 ,  5F033HH40 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ82 ,  5F033QQ83 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX01 ,  5F046JA02 ,  5F046JA27 ,  5F110AA04 ,  5F110AA18 ,  5F110AA28 ,  5F110BB02 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110DD21 ,  5F110DD25 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE05 ,  5F110EE37 ,  5F110EE42 ,  5F110EE47 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG45 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK05 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110HK32 ,  5F110HK35 ,  5F110HK41 ,  5F110HL07 ,  5F110NN03 ,  5F110NN12 ,  5F110NN22 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN35 ,  5F110NN71 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110QQ01 ,  5F110QQ09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許第5132248号明細書
  
• 導電膜パターンの形成方法および電気光学装置、電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-197801   出願人：セイコーエプソン株式会社

審査官引用 (5件)

• 特許第3332134号
  
• セラミック配線板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-024312   出願人：ニッコー株式会社
• 回路形成方法及び電子回路基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-187272   出願人：松下電器産業株式会社
• 特許第3332134号
  
• 特許第3332134号