特許
J-GLOBAL ID:200903034428748066
洗浄装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-032016
公開番号(公開出願番号):特開平9-289186
出願日: 1997年02月17日
公開日(公表日): 1997年11月04日
要約:
【要約】【課題】 被洗浄基板の上方に配置した高周波振動ノズルを用いて前記被洗浄基板の表裏面を同時に精密洗浄することが可能な洗浄装置を提供するものである。【解決手段】 被洗浄基板を水平な状態で保持する保持手段と、前記保持手段を回転させるための回転手段と、前記保持手段の上方に配置され、前記保持手段に支持された前記被洗浄基板の表面に向けて高周波音波に乗った洗浄液を噴射するための第1洗浄液噴射手段と、前記保持手段の下方に配置され、前記保持手段に支持された前記基板の裏面に向けて洗浄液を噴射するため第2洗浄液噴射手段とを具備したことを特徴としている。
請求項(抜粋):
被洗浄基板を水平な状態で保持する保持手段;前記保持手段を回転させるための回転手段;前記保持手段の上方に配置され、前記保持手段に支持された前記被洗浄基板の表面に向けて高周波音波に乗った洗浄液を噴射するための第1洗浄液噴射手段;および前記保持手段の下方に配置され、前記保持手段に支持された前記基板の裏面に向けて洗浄液を噴射するため第2洗浄液噴射手段;を具備することを特徴とする洗浄装置。
IPC (2件):
H01L 21/304 341
, B08B 3/02
FI (2件):
H01L 21/304 341 N
, B08B 3/02 B
引用特許:
審査官引用 (5件)
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洗浄方法および洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-021226
出願人:株式会社フロンテック, 株式会社プレテック
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基板洗浄装置および基板洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-333120
出願人:大日本スクリーン製造株式会社, 富士通株式会社
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噴射形超音波洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-040720
出願人:株式会社国際電気エルテック, 株式会社渡邊商行
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