特許
J-GLOBAL ID:200903034570147517
堆積装置のサセプタ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-256805
公開番号(公開出願番号):特開平9-181155
出願日: 1996年09月27日
公開日(公表日): 1997年07月11日
要約:
【要約】【課題】 ウエハの両面全面に完全なカバレージで物質を堆積するための装置のサセプタ。【解決手段】 本発明は、ウエハ表面上に物質の層を堆積する装置のためのサセプタに関する。このサセプタは、1つの表面を有するプレートである。このプレートの表面から、複数の支持ポストが突き出ている。支持ポスト上にウエハが置かれたときプレートの表面と間隔を置くことができるようなパターンに従った間隔を持って、複数の支持ポストが配置される。
請求項(抜粋):
ウエハの表面上に物質の層を堆積する装置のためのサセプタであって、1つの表面を有するプレートと、前記プレートの前記表面から突き出る複数の支持ポストであって、前記支持ポストは、前記支持ポスト上にウエハが置かれたとき前記プレートの前記表面と間隔を置くことができるようなパターンに従った間隔をもって配置され、前記支持ポストは、ウエハと前記プレートの前記表面との間を堆積ガスが流動し及び/又は拡散するに充分であり且つ前記プレートからウエハへの熱移動が主に伝導によりなされるような長さを有している、前記支持ポストとを備えるサセプタ。
IPC (3件):
H01L 21/68
, C23C 16/44
, H01L 21/205
FI (3件):
H01L 21/68 N
, C23C 16/44 H
, H01L 21/205
引用特許:
審査官引用 (7件)
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特開昭61-001017
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特開昭61-215291
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特開昭63-285928
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特開平2-100322
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CVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-281316
出願人:株式会社日立製作所
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半導体基板用熱処理治具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-220728
出願人:住友シチックス株式会社
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サセプタ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-226666
出願人:東芝セラミックス株式会社
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