特許

J-GLOBAL ID：200903034602921732

露光方法および装置

発明者： 尾崎 多可雄 ,  植村 隆之 ,  岡崎 洋二 ,  高田 倫久 ,  下山 裕司 ,  中谷 大輔 ,  角 克人
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-376671
公開番号（公開出願番号）：特開2005-210112
出願日： 2004年12月27日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：

【課題】 低コストでフォトレジストに対する中間調露光を実現できる露光方法を得る。 【解決手段】 空間光変調素子により変調した光53をフォトレジストに照射して、該フォトレジストを所定パターンに露光する露光方法において、例えば副走査に伴ってフォトレジストの同一部分に光53を照射する回数が変わるように空間光変調素子の動作を制御して、フォトレジストに露光量が少なくとも2段階に異なる露光域を形成する。【選択図】 図8

請求項（抜粋）：

空間光変調素子により変調した光を感光性材料に照射して、該感光性材料を所定パターンに露光する露光方法において、 感光性材料への照射光量を露光部分に応じて少なくとも2段階に変化させるように前記空間光変調素子の動作を制御して、該感光性材料に露光量が少なくとも2段階に異なる露光域を形成可能とした露光方法。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (1件)：

H01L21/30 529

Fターム (5件)：

5F046BA07 ,  5F046CB02 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046DA02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-000160   出願人：三星電子株式会社
• 液晶用マトリクス基板の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-154483   出願人：シャープ株式会社
• 光配線回路の製造方法、及びその光配線回路を備えた光配線基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-154932   出願人：富士写真フイルム株式会社