光配線回路の製造方法、及びその光配線回路を備えた光配線基板

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一 , 福田浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-154932
公開番号（公開出願番号）：特開2004-062157
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

【課題】光導波路を構成するコア層の端部に設ける傾斜面形状をマスクレス露光により容易に形成することができる光配線基板の製造方法を得る。【解決手段】画像情報に応じて空間変調素子により変調された光ビームで画像露光を行う露光装置を用い、光配線基板材料であるコア層206上に塗布した感光材料150(フォトレジスト)の所定領域を光ビーム(UV)により露光してパタニングしエッチングマスク150Aを形成する。コア層206の端部に形成する傾斜面208と対応した領域は、傾斜面208の傾斜形状に応じて露光量を制御した光ビームにより露光してパタニングし、エッチングマスク150Aの端部を斜面構造とする。このエッチングマスク150Aによりコア層206をエッチング加工すると、コア層206の端部ではエッチングマスク150Aの膜厚に比例して加工が進行し傾斜面208が形成される。【選択図】図19

請求項（抜粋）：

光導波路により回路構成された光配線回路の製造方法であって、画像情報に応じて空間光変調素子により変調された光ビームで画像露光を行う露光手段を用い、前記光導波路を形成するための光学材料の所定領域を前記光ビームにより露光しパタニングする工程を有することを特徴とする光配線回路の製造方法。

IPC (4件)：

G02B6/13 , G02B6/122 , G02B26/08 , G03F7/20

FI (4件)：

G02B6/12 M , G02B26/08 E , G03F7/20 501 , G02B6/12 A

Fターム (15件)：

2H041AA16 , 2H041AB14 , 2H041AC06 , 2H041AZ01 , 2H047KA04 , 2H047KB08 , 2H047LA09 , 2H047PA22 , 2H047PA24 , 2H047PA28 , 2H047QA05 , 2H097CA03 , 2H097FA03 , 2H097GB04 , 2H097LA17

引用特許：

審査官引用 (3件)

直接描画方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-132258 出願人：エヌティエヌ株式会社
加工方法および光学部品
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-298849 出願人：シャープ株式会社
特開昭61-072216

引用文献：

審査官引用 (1件)

A New Application of DMD to Photolithography and Rapid Prototyping System

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