特許
J-GLOBAL ID：200903034652895520

無機分離膜及びその製造方法

発明者：
増田 隆夫

増田 隆夫 について

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多湖 輝興

多湖 輝興 について

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吉田 修一

吉田 修一 について

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富田 俊弘

富田 俊弘 について

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鈴木 憲次

鈴木 憲次 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について

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国立大学法人 北海道大学

国立大学法人 北海道大学 について


代理人 (2件)： 綿貫 達雄 ,  山本 文夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-153451
公開番号（公開出願番号）：特開2006-326490
出願日： 2005年05月26日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】耐酸性と親水性を兼ね備え、しかも水の透過速度を従来よりも大幅に向上させた無機分離膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の無機分離膜は、セラミックス多孔質支持体1上にシリカライトナノクリスタル層2を形成し、更にその上面に多孔質の無機保護層3を形成したものである。シリカライトナノクリスタル結晶径は、150nm以下とすることが好ましく、シリカライトナノクリスタル層の厚みは、1.0μm〜4.0μmとすることが好ましい。この分離膜は、セラミックス多孔質支持体1をシリカライトナノクリスタルの分散液中に浸漬し、その内部を減圧することによりシリカライトナノクリスタルを積層させ、これをさらにゼオライト合成溶液中に浸漬したうえ加熱して無機保護層3を水熱合成し,さらに液相酸化により有機成分を除去する方法で製造できる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
セラミックス多孔質支持体上に、シリカライトナノクリスタル層を形成し、更にその上面に多孔質の無機保護層を形成したことを特徴とする無機分離膜。
IPC (3件)：
B01D 71/02 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12
FI (3件)：
B01D71/02 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12
Fターム (12件)：
4D006MA02 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MA31 ,  4D006MB12 ,  4D006MB16 ,  4D006MB20 ,  4D006MC03X ,  4D006NA45 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB14
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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引用文献：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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