スピン処理装置及びスピン処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-037308
公開番号（公開出願番号）：特開2000-237667
出願日： 1999年02月16日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
要約：

【要約】【課題】この発明は回転テ-ブを回転させて基板を処理する際に、その基板が汚染されずらいようにしたスピン処理装置を提供することにある。【解決手段】基板10を回転させることで、この基板に所定の処理を行うスピン処理装置において、円筒体2と、この円筒体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される回転テーブル7と、上記筒状壁体の周壁に形成され上記回転テーブルの回転によって生じる空気流をこの筒状壁体から流出させる流出口部11と、この流出口部から流出した空気流を排気する排出管14とを具備したことを特徴とする

請求項（抜粋）：

基板を回転させることで、この基板に所定の処理を行うスピン処理装置において、筒状壁体と、この筒状壁体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される回転テーブルと、上記筒状壁体の周壁に形成され上記回転テーブルの回転によって生じる空気流をこの筒状壁体から流出させる流出口部と、この流出口部から流出した空気流を排出する排出手段とを具備したことを特徴とするスピン処理装置。

IPC (3件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 , G03F 7/16 502

FI (3件)：

B05C 11/08 , B05D 1/40 A , G03F 7/16 502

Fターム (14件)：

2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025EA10 , 2H025FA15 , 4D075AC64 , 4D075AC79 , 4D075DA08 , 4D075DB13 , 4D075DC21 , 4F042AA06 , 4F042AA07 , 4F042EB07 , 4F042EB09 , 4F042EB24

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭63-283131
特開昭64-071127
レジスト塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-127581 出願人：富士通株式会社

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審査官引用 (4件)

レジスト塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-127581 出願人：富士通株式会社
特開昭63-283131
特開昭64-071127

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