特許
J-GLOBAL ID：200903034814496616

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者：
中川 正弘

中川 正弘 について

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萩原 恒幸

萩原 恒幸 について

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江村 望

江村 望 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について

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株式会社仙台ニコン

株式会社仙台ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-281566
公開番号（公開出願番号）：特開2005-129914
出願日： 2004年09月28日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 投影光学系を介した光を良好に受光できる受光器を有する露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系PLの像面側に配置された基板Pに対して投影光学系PLと液体LQとを介して露光光を照射することによって基板Pを露光するものであって、投影光学系PLの像面側に配置されたスリット部71を有するスリット板75を介して投影光学系PLを通過した光を受光する受光器90を備え、受光器90を構成する光学素子76とスリット板75との間に液体LQが満たされている。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
投影光学系の像面側に配置された基板に対して前記投影光学系と液体とを介して露光光を照射することによって前記基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系の像面側に配置された光透過部を有する光学部材を介して前記投影光学系を通過した光を受光する受光器を備え、 前記受光器と前記光学部材との間に液体が満たされていることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 501 ,  H01L21/30 516C
Fターム (10件)：
2H097BA02 ,  2H097BB01 ,  2H097EA01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046DA07 ,  5F046DB01 ,  5F046DC11
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (4件)
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