特許
J-GLOBAL ID：200903034849866610

塗布、現像装置及び塗布、現像方法

発明者：
松岡 伸明

松岡 伸明 について

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林 伸一

林 伸一 について

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林田 安

林田 安 について

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原 圭孝

原 圭孝 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-084546
公開番号（公開出願番号）：特開2006-269672
出願日： 2005年03月23日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
【課題】 基板検査ユニットを組み込むにあたって、設置スペースについて不利のない構造、例えば塗布、現像装置本体の横から飛び出すことない構造を備えた塗布、現像装置を提供すること。【解決手段】 塗布膜形成用のブロックと現像処理用のブロックとを積層すると共に、各処理ブロック毎にブロック用の搬送手段との間で基板の受け渡しを行うための受け渡しステージをキャリアブロック側に設けて棚状の受け渡しステージ群を構成し、これら受け渡しステージ群の受け渡しステージの間で基板を搬送する上下搬送手段を設ける。そしてキャリアブロックの上部の空きスペースに基板検査ユニットを配置すると共に、上下搬送手段を介して直接あるいは受け渡しステージ群中の受け渡しステージを介して当該基板検査ユニットに搬送する。また基板検査ユニットは、受け渡しステージ群中に配置してもよい。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板をキャリアブロック用の搬送手段を介して処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、インターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、 a.複数の塗布膜形成用のブロックを互いに積層し、 b.各塗布膜形成用のブロックは、塗布液を基板に塗布するための液処理ユニット及び塗布液が塗布された基板を加熱する加熱ユニットを含む複数の処理ユニットと、これら処理ユニット間で基板を搬送するブロック用の搬送手段とを備えると共に、複数の塗布膜形成用のブロックの少なくとも一つは、レジスト液塗布用の液処理ユニットを含み、 c.前記塗布膜形成用のブロックに対して現像処理用のブロックを積層して積層ブロックを構成し、 d.現像処理用のブロックは、露光された基板を加熱処理するための加熱ユニット及び現像液を基板に塗布するための液処理ユニットを含む複数の処理ユニットと、これら処理ユニット間で基板を搬送するブロック用の搬送手段と、を備え、 e.キャリアブロックと積層ブロックとの間において、複数の塗布膜形成用のブロックの各々及び現像処理用のブロック毎に配置され、各ブロックの搬送手段との間で基板の受け渡しを行なうための受け渡しステージからなる棚状の受け渡しステージ群と、 前記受け渡しステージ群における各受け渡しステージ同士の間で昇降して基板の受け渡しを行なうための上下搬送手段と、 前記キャリアブロックの上部であってかつキャリアブロック用の搬送手段よりも高い位置に設けられた基板検査ユニットと、を備え、 f.前記上下搬送手段を介して基板検査ユニットに基板を搬入する 構成としたことを特徴とする塗布、現像装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 562
Fターム (6件)：
5F046CD03 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046JA27 ,  5F046KA10 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 塗布、現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-217722   出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (5件)
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