露光装置及び露光方法、デバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和 , 西和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-412583
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207710
出願日： 2003年12月10日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】投影光学系と基板との間に液体を満たした状態で露光処理を行う際、良好なパターン転写精度で基板を露光できる液浸露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、投影光学系PLと基板Pとの間を液体50で満たし、投影光学系PLにより液体50を介して基板P上にパターンの像を投影することによって基板Pを露光する。基板Pを保持する基板ステージPSTと、投影光学系PLの像面側に液体50を供給する液体供給装置1と、基板P表面の面情報を液体50を介さずに検出するフォーカス・レベリング検出系14とを備えている。露光装置EXは、フォーカス・レベリング検出系14で検出された面情報に基づいて基板P表面と投影光学系PL及び液体50を介して形成される像面との位置関係を調整しつつ基板Pの液浸露光を行う。良好なパターン転写精度で液浸露光ができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、パターンの像を基板に投影する投影光学系と、前記基板を保持する第1基板ステージと、前記投影光学系の像面側に前記液体を供給する液体供給装置と、前記基板表面の面情報を、液体を介さずに検出する面検出系とを備え、前記検出された面情報に基づいて、前記基板表面と前記投影光学系により前記液体を介して形成される像面との位置関係を調整しつつ前記基板の液浸露光を行う露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 521 , H01L21/30 526

Fターム (6件)：

5F046AA22 , 5F046BA03 , 5F046CB01 , 5F046DA14 , 5F046DA27 , 5F046DB04

引用特許：

出願人引用 (1件)

国際公開第99/49504号パンフレット

審査官引用 (4件)

リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-274812 出願人：株式会社ニコン
時間を節約する高さ測定を用いた、基板にマスク・パターンを繰り返し投影する方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平11-533271 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
投影露光装置の位置決め方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-244481 出願人：株式会社ニコン

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