特許
J-GLOBAL ID：200903034929144004
石英ガラスの均質化方法及びこれにより得られた石英ガラス
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-279119
公開番号（公開出願番号）：特開平11-116255
出願日： 1997年10月13日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：
【要約】【課題】 石英ガラス合成時に合成面に落下したり不完全な反応で反応途中に石英ガラス中に取り込まれてしまった組成や形態のことなるSiO2微粒子が石英ガラス中に残存し、屈折率が不均質となる。【解決手段】 光学的に不均質な石英ガラスを、1200°C以上2200°C以下の処理温度、不活性ガス、支燃性ガス、H2ガスもしくはその混合ガスの雰囲気で、0〜10kg/cm2の圧力もしくは真空中において、5°C/H以上100°C/H以下の速度で熱処理する事により、該石英ガラス内に存在した屈折率のばらつきを均質化する。
請求項（抜粋）：
光学的に不均質な石英ガラスを、1200°C以上2200°C以下の処理温度、不活性ガス、支燃性ガス、H2ガスもしくはその混合ガスの雰囲気で、0〜10kg/cm2の圧力もしくは真空中において、5°C/H以上100°C/H以下の速度で熱処理する事により、該石英ガラス内に存在した屈折率のばらつきを均質化することを特徴とする石英ガラスの均質化方法。
引用特許：
前のページに戻る
