特許
J-GLOBAL ID：200903034943702770
特徴形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-006720
公開番号（公開出願番号）：特開2003-225943
出願日： 2003年01月15日
公開日（公表日）： 2003年08月12日
要約：
【要約】【課題】 高分子材料に特徴を形成する方法を提供する。【解決手段】 この方法は、基板上に形成されたポリマー層をアブレーションレーザで照射し、ポリマー層に少なくとも1つの特徴を形成するステップを含む。ポリマー層は非感光性材料を含み、基板は、珪素、石英、ガラス、セラミックス、及び金属からなる群から選択される材料を含む。少なくとも1つの特徴は、(i)約2ミクロン乃至約1000ミクロンの幅、及び(ii)約0.1ミクロン乃至約1000ミクロンの高さを有する。
請求項（抜粋）：
ポリマー層に特徴を形成する方法であって、基板上に形成されたポリマー層をアブレーションレーザで照射し、前記ポリマー層に少なくとも1つの特徴を形成するステップを含み、前記ポリマー層は非感光性材料を含み、前記基板は、珪素、石英、ガラス、セラミックス、及び金属からなる群から選択される材料を含み、前記少なくとも1つの特徴は、(i)約2ミクロン乃至約1000ミクロンの幅、及び(ii)約0.1ミクロン乃至約1000ミクロンの高さを有する、前記方法。
IPC (3件)：
B29C 59/16
, B41J 2/05
, B41J 2/16
B29C 59/16
, B41J 3/04 103 B
, B41J 3/04 103 H
2C057AF93
, 2C057AP23
, 2C057BA13
, 4F209AD03
, 4F209AD04
, 4F209AD05
, 4F209AF01
, 4F209AF16
, 4F209AG01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH81
, 4F209AK03
, 4F209PA15
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PC06
, 4F209PC08
