特許
J-GLOBAL ID：200903035080210586
液晶表示装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-330560
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260684
出願日： 1996年12月11日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】 液晶表示装置において、薄膜トランジスタの特性の際に起因する表示ムラを視覚的にとらえにくくすることを目的とする。【解決手段】 非晶質シリコンに線状のレーザを複数回走査して照射し、多結晶化する場合において、複数回走査するときの重複領域と非重複領域との境界を非直線状にする。
請求項（抜粋）：
基板上に非晶質シリコン層を形成する工程と、前記非晶質シリコン層に線状ビームを照射及び走査して、非晶質シリコン層を多結晶シリコン層に変換し、前記線状エネルギービームの照射及び走査は、多結晶シリコン層に変換される領域全体を覆うように、その位置をシフトして複数回行われる工程と、を備えたアレイ基板を形成する工程と、前記アレイ基板と対向基板とを貼り合わせその間隙に液晶を封入する工程と、を備えた液晶表示装置の製造方法において、前記エネルギービームは複数回の線状エネルギービームの走査の隣接する各回数の端部照射領域を重複させて走査され、重複領域と非重複領域との境界が非直線状となるように走査される液晶表示装置の製造方法。
IPC (4件)：
H01L 29/786
, H01L 21/336
, G02F 1/136 500
, H01L 21/20
H01L 29/78 627 G
, G02F 1/136 500
, H01L 21/20
