特許

J-GLOBAL ID：200903035234292505

光学薄膜、光学素子及び露光装置

発明者： 谷 裕久
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-197512
公開番号（公開出願番号）：特開2002-014202
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】レーザ耐久性の高い紫外域レーザ用光学薄膜を提供すること。【解決手段】基板と、前記基板上に成膜されるフッ化物系物質からなる層を含む光学薄膜において、基板側とは反対側である最上層に酸化物系物質からなる層を配置する構成とした。

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板上に成膜されるフッ化物系物質からなる層を含む光学薄膜において、前記基板側とは反対側である最上層に酸化物系物質からなる層を配置し、レーザ耐久性を向上させたことを特徴とする光学薄膜。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00

FI (4件)：

G03F 7/20 502 ,  H01S 3/00 B ,  G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (17件)：

2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  2K009AA02 ,  2K009BB02 ,  2K009CC06 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  2K009DD07 ,  2K009DD09 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB12 ,  5F072AA06 ,  5F072JJ03 ,  5F072KK26 ,  5F072YY09

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 光学薄膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-307477   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭63-113502
  
• 反射防止膜及びその製造方法及び光学素子及び光学システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-132331   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭62-123401
  
• 反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-050554   出願人：株式会社ニコン