フォトマスク修復方法、検査方法、検査装置及びフォトマスク製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-178300
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072905
出願日： 1998年06月25日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】【課題】レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する【解決手段】レーザ光の位相を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化した状態で、このレーザ光をフォトマスク2に照射する照明光学系5と、前記レーザ光とこのフォトマスク2とを相対的に移動させながらこのフォトマスクの像を蓄積型センサ17で検知すると共に、この蓄積型センサ17から出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記マスクの画像を形成すると共に、このマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出装置(中央演算装置2)とを有する。

請求項（抜粋）：

レーザ光の位相を連続的に変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化した状態で、このレーザ光をフォトマスクに照射する照明工程と、前記レーザ光とこのフォトマスクとを相対的に移動させながらこのフォトマスクの像を蓄積型センサで検知すると共に、この蓄積型センサから出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記マスクの画像を形成する画像取得工程と、このマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出工程と、このパターン欠陥検出結果に基づいてパターンの欠陥位置を特定し、マスクパターンの欠陥を修復する欠陥修復工程とを有することを特徴とするフォトマスク修復方法。

IPC (5件)：

G03F 1/08 , G01B 11/30 , G01M 11/00 , G02B 19/00 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 1/08 T , G03F 1/08 S , G01B 11/30 C , G01M 11/00 T , G02B 19/00 , H01L 21/30 502 W , H01L 21/30 502 V

引用特許：

審査官引用 (10件)

光学式基板検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-224325 出願人：ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション
特開昭63-173322
特開平3-022407

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