走査型露光装置の露光領域の決定方法及び投影光学系

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：猪熊克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-324646
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149980
出願日： 1996年11月19日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】走査型露光装置の露光領域について、露光される画像の歪を低減することができる露光領域の形状の決定手法を提供する。【解決手段】レチクル1上のパターン1aの像のうちの露光領域4内の像を投影光学系3によってウエハ2上に結像し、ウエハ2とレチクル1とを投影光学系3の倍率に応じた速度比にて同期して走査し、走査方向yに関する露光領域4の幅c1を一様に形成することにより、レチクル1上のパターン1aをウエハ2上に転写する走査型露光装置の、露光領域4の走査方向と直交する長手方向xの形状を決定する方法であって、投影光学系3の歪収差D(x,y)とレクチル上のパターンの配列方向φとに基づいて、投影光学系3による露光領域4内の像とパターン1aとの間の位相ずれΦが最小となるように、露光領域4の長手方向xの形状を定めることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レチクル上のパターンの像のうちの露光領域内の像を投影光学系によってウエハ上に結像し、該ウエハと前記レチクルとを前記投影光学系の倍率に応じた速度比にて同期して走査し、該走査方向に関する前記露光領域の幅を一様に形成することにより、前記レチクル上のパターンを前記ウエハ上に転写する走査型露光装置の、前記露光領域の前記走査方向と直交する長手方向の形状を決定する方法であって、前記投影光学系の歪収差とレクチル上の前記パターンの配列方向とに基づいて、投影光学系による前記露光領域内の像と前記パターンとの間の位相ずれが最小となるように、露光領域の前記長手方向の形状を定めることを特徴とする、走査型露光装置の露光領域の決定方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 518 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 A

引用特許：

審査官引用 (8件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-323721 出願人：株式会社ニコン
投影光学系の調整方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-141914 出願人：株式会社ニコン
特開昭61-232615

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