低温焼成ガラスセラミックス基板とその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-057729
公開番号（公開出願番号）：特開平10-251056
出願日： 1997年03月12日
公開日（公表日）： 1998年09月22日
要約：

【要約】【課題】低誘電率、低誘電損失であり、かつ高強度であるガラスセラミックス基板を提供する。【解決手段】硼珪酸ガラスと、α-アルミナと、γ-アルミナと、前記硼珪酸ガラスとγ-アルミナから析出分散するムライト結晶からなる低温焼成ガラスセラミックス基板。

請求項（抜粋）：

硼珪酸ガラスと、α-アルミナと、γ-アルミナと、前記硼珪酸ガラスとγ-アルミナから析出分散するムライト結晶からなることを特徴とする低温焼成ガラスセラミックス基板。

IPC (3件)：

C04B 35/16 , H05K 1/03 610 , H05K 3/46

FI (3件)：

C04B 35/16 Z , H05K 1/03 610 D , H05K 3/46 H

引用特許：

審査官引用 (4件)

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