放射能の化学除染方法および装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：猪股祥晃 , 菊池治 , 猪股弘子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-075932
公開番号（公開出願番号）：特開2004-286471
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】除染速度が高く除染装置の腐食が少なく二次廃棄物発生量の少ない放射能の化学除染装置を提供する。【解決手段】放射性物質で汚染された除染対象物をギ酸とシュウ酸からなる除染液に浸漬し前記除染対象物の電位を腐食領域まで下げて前記除染対象物の表面を溶解し、前記除染液中の金属イオンを陽イオン交換樹脂で分離し除去する構成とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射性物質で汚染された除染対象物をギ酸とシュウ酸からなる除染液に浸漬し前記除染対象物の電位を腐食領域まで下げて前記除染対象物の表面を溶解し、前記除染液中の金属イオンを陽イオン交換樹脂で分離し除去することを特徴とする放射能の化学除染方法。

IPC (1件)：

G21F9/28

FI (1件)：

G21F9/28 525B

引用特許：

審査官引用 (8件)

金属部品の放射能レベルの低下方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-546371 出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
特開昭61-231496
除染方法および除染剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-246908 出願人：栗田エンジニアリング株式会社, 日立エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所

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