特許
J-GLOBAL ID：200903035709938871

露光方法及び露光装置、デバイス製造方法

発明者：
奈良 圭

奈良 圭 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-148301
公開番号（公開出願番号）：特開2003-347184
出願日： 2002年05月22日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：
【要約】【課題】 精度を維持しつつアライメント処理時間を短縮し、生産性が向上される露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 露光装置EXは、マスクMと感光基板PとをX軸方向に同期移動しつつ、感光基板Pに対してマスクMのパターンを露光する走査型露光装置である。この露光装置EXは、感光基板P上の複数位置に設けられたアライメントマークm1〜m6のそれぞれを検出する複数のアライメント系ALを備え、アライメント系AL1〜AL6は、非走査方向であるY軸方向に少なくとも3つ並んで配置されている。
請求項（抜粋）：
マスクと基板とを第1の方向に同期移動しつつ、前記基板に対して前記マスクのパターンを露光する露光方法において、前記基板上に設けられた複数のアライメントマークのそれぞれに対向するとともに前記第1の方向と交差する第2の方向に少なくとも3つ並んで配置された複数のアライメント系が前記複数のアライメントマークを検出し、該検出結果に基づいて前記マスクと前記基板との位置合わせをすることを特徴とする露光方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00
FI (5件)：
G01B 11/00 C ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 R ,  H01L 21/30 518
Fターム (34件)：
2F065AA01 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065GG02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL01 ,  2F065LL12 ,  2F065LL26 ,  2F065LL33 ,  2F065LL37 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ31 ,  2F065TT08 ,  5F046BA05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046EB07 ,  5F046FA05 ,  5F046FA10 ,  5F046FA17 ,  5F046FB10 ,  5F046FB12 ,  5F046FC06
引用特許：
審査官引用 (3件)

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