特許
J-GLOBAL ID:200903035768966285

X線反射率測定装置及びX線反射率測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 柏谷 昭司 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-265179
公開番号(公開出願番号):特開平9-105726
出願日: 1995年10月13日
公開日(公表日): 1997年04月22日
要約:
【要約】【課題】 X線反射率測定方法及びX線反射率測定装置に関し、X線入射角のより広い範囲に渡って精度の高いX線反射率の測定を行う。【解決手段】 X線反射率測定装置のX線源1とX線検出器6との間のX線通路7,8に、交換可能にX線吸収体2を設けて、被測定試料5からの反射X線をX線検出器6で検出する。
請求項(抜粋):
X線源とX線検出器との間のX線通路に、X線吸収体を設けたことを特徴とするX線反射率測定装置。
IPC (3件):
G01N 23/20 ,  G01T 7/00 ,  G21K 1/10
FI (3件):
G01N 23/20 ,  G01T 7/00 Z ,  G21K 1/10 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • X線反射率解析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-106443   出願人:株式会社日立製作所, 理学電機株式会社
  • 多層膜構造解析方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-327124   出願人:株式会社リコー
  • 全反射X線分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-009789   出願人:株式会社日立製作所
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