特許
J-GLOBAL ID：200903064393421219

薄膜の膜厚計測方法及びその装置並びにそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその製造装置

発明者：
廣瀬 丈師

廣瀬 丈師 について

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野口 稔

野口 稔 について

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二宮 隆典

二宮 隆典 について

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見坊 行雄

見坊 行雄 について

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前田 俊二

前田 俊二 について

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土山 洋史

土山 洋史 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-299311
公開番号（公開出願番号）：特開2000-009437
出願日： 1998年10月21日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【課題】広く透明な膜の膜厚および膜厚分布を高精度に計測することを目的とする。その一例としてCMP加工において、実際の製品の段差パターン上に形成された最表面層の膜厚を計測することにより、高精度な膜厚管理を可能とし、加工のスループットの向上を実現すること。【解決手段】実際のデバイスパターン上に形成された光学的に透明な膜の膜厚を、分光分布を周波数解析することにより高精度に計測する膜厚計測ユニットを研磨装置に組み込むことにより、高精度の膜厚管理を実現する。また、これにより、加工のスループットの向上を実現する。高精度の計測方法として白色光の膜による干渉光の分光分布波形に対して周波数解析し、波形の含む周波数成分の位相と膜厚の関係から膜厚の絶対値の算出を行う。
請求項（抜粋）：
段差パターン上に光学的に透明な薄膜を形成した試料に光を照射し、該光の照射により前記試料から発生する反射光を検出し、該検出した反射光の分光分布波形に基づいて前記段差パターン上に形成した光学的に透明な膜の膜厚を求めることを特徴とする薄膜の膜厚計測方法。
IPC (5件)：
G01B 11/06 ,  B24B 37/04 ,  B24B 49/12 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/66
FI (5件)：
G01B 11/06 Z ,  B24B 37/04 K ,  B24B 49/12 ,  H01L 21/304 622 S ,  H01L 21/66 P
Fターム (55件)：
2F065AA03 ,  2F065AA17 ,  2F065AA30 ,  2F065AA58 ,  2F065BB13 ,  2F065BB17 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065EE04 ,  2F065EE08 ,  2F065FF44 ,  2F065FF67 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ16 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ44 ,  3C034AA13 ,  3C034AA17 ,  3C034BB93 ,  3C034CA05 ,  3C034CA22 ,  3C034CB13 ,  3C034DD10 ,  3C034DD20 ,  3C058AA07 ,  3C058AC02 ,  3C058BA09 ,  3C058BC03 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17 ,  4M106AA01 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH12 ,  4M106DH31 ,  4M106DH60 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (8件)
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