特許
J-GLOBAL ID：200903035826374210
乾燥装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-207225
公開番号（公開出願番号）：特開2004-049949
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】本発明は、搬送ロールによって略水平方向に搬送される基板に圧縮空気を吹き付けて処理液を除去する乾燥装置に関し、処理液を吹き飛ばすことなく除去できるようにすることを目的とする。【解決手段】表面Wa,Wbに液膜或いは液滴状の処理液50を有する基板Wを一方向に搬送する搬送路Rを有する搬送手段と、この搬送路Rの近傍に配置され、処理液50を搬送方向の上流側に移動させるように基板Wの表面Wa,Wbに向けて乾燥用気体を送風する送風手段10と、搬送路Rの送風手段10よりも上流側の路側r1に接触又は近接して設けられ、基板の表面Wa,Wbの処理液50を受液する受液手段11とを備えて構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面に液膜或いは液滴状の処理液を有する基板を一方向に搬送する搬送路を有する搬送手段と、
上記搬送路の近傍に配置され、上記処理液を搬送方向の上流側に移動させるように上記基板の表面に向けて乾燥用気体を送風する送風手段と、
上記搬送路の上記送風手段よりも上流側の路側に接触又は近接して設けられ、上記基板の表面の上記処理液を受液する受液手段とを備えたことを特徴とする、乾燥装置。
IPC (3件)：
B08B5/02
, F26B5/00
, G02F1/13
B08B5/02 Z
, F26B5/00
, G02F1/13 101
2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088HA01
, 2H088MA16
, 2H088MA20
, 3B116AA02
, 3B116AB14
, 3B116BB32
, 3B116BB62
, 3B116CC03
, 3L113AA03
, 3L113AB09
, 3L113AC31
, 3L113AC36
, 3L113AC47
, 3L113BA34
, 3L113DA06
