特許
J-GLOBAL ID：200903035848623567
超臨界乾燥方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-322079
公開番号（公開出願番号）：特開2004-158591
出願日： 2002年11月06日
公開日（公表日）： 2004年06月03日
要約：
【課題】超臨界状態とする物質の液体とリンス液との置換をより効率的に行い、パターン倒れの発生を極力抑制した状態で超臨界乾燥が行えるようにすることを目的とする。【解決手段】圧力8MPaの状態で、反応室102の内部が液化二酸化炭素で充填されたところで、圧力制御バルブ110を閉じる。次いで、圧力計105の圧力測定値により導入バルブ106の開度を制御し、圧送ポンプ104の排出側と導入バルブ106との間の配管112内の圧力(圧力計105の圧力測定値)が、10MPaとなるまで導入バルブ106を閉じた状態とし、圧力計105の測定値が10MPaとなったところで、導入バルブ106を開放する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成された所定のパターンをリンス液に晒す第1の工程と、
前記基板を反応室内に配置し、前記反応室内に大気雰囲気では気体である第1物質の液体を圧送して前記反応室内を前記第1物質の液体で充填し、前記パターンに前記リンス液が付着している状態で前記パターンを前記第1物質の液体に晒す第2の工程と、
前記反応室内の前記第1物質が液体である状態を保持する条件で、前記反応室の内部を所定の圧力とする第3の工程と、
大気雰囲気では気体である第2物質を前記反応室の内部の圧力以上として前記反応室内に導入し、前記反応室の内部の圧力を一時的に上昇させる第4の工程と、
前記反応室内の前記第1物質を超臨界状態とする第5の工程と、
前記パターンに付着している超臨界状態の前記第1物質を気化させる第6の工程と
を少なくとも備えたことを特徴とする超臨界乾燥方法。
IPC (4件)：
H01L21/027
, F26B5/00
, F26B21/10
, H01L21/304
H01L21/30 569F
, F26B5/00
, F26B21/10 Z
, H01L21/304 651Z
3L113AA01
, 3L113AB10
, 3L113AC67
, 3L113BA34
, 3L113CA08
, 3L113CA10
, 3L113DA04
, 5F046LA12
, 5F046LA14
, 5F046LA18
出願人引用 (3件)
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超臨界乾燥方法および装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-358909
出願人：日本電信電話株式会社
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超臨界乾燥方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-112483
出願人：日本電信電話株式会社
-
微細構造物の乾燥装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-124170
出願人：株式会社日立サイエンスシステムズ
審査官引用 (1件)
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