特許
J-GLOBAL ID：200903035860459225
粒子基板の製造方法および粒子基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
堀口 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-050403
公開番号（公開出願番号）：特開2007-223015
出願日： 2006年02月27日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：
【課題】1nm以下のナノ粒子、サブナノ粒子を規則的に広い面積で形成した粒子基板および粒子基板の製造方法を提供する。【解決手段】粒子基板は金属を含む析出層2を表面に有する基板1を用意し、前記基板1表面からほぼ一定距離の絶縁層3を隔てて、ほぼ一様に金属粒子群を配列した粒子層4を形成し、前記粒子層4に対して、前記絶縁層3とは反対側から光を照射して、前記粒子層4の前記絶縁層3側の金属粒子端にプラズモンを発生させ、当該プラズモンに対応して、前記析出層2の金属もしくは当該金属の酸化物である粒子群をほぼ一様に析出させる構成とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
金属を含む析出層を表面に有する基板を用意し、
前記基板表面からほぼ一定距離の絶縁層を隔てて、ほぼ一様に金属粒子群を配列した粒子層を形成し、
前記粒子層に対して、前記絶縁層とは反対側から光を照射して、前記粒子層の前記絶縁層側の金属粒子端にプラズモンを発生させ、
当該プラズモンに対応して、前記析出層の金属もしくは当該金属の酸化物である粒子群をほぼ一様に析出させることを特徴とした
粒子基板の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
4K044AA01
, 4K044AA11
, 4K044AB02
, 4K044BA01
, 4K044BA13
, 4K044BA21
, 4K044BB01
, 4K044BB08
, 4K044BC14
, 4K044CA27
, 4K044CA29
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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