特許
J-GLOBAL ID：200903035920781784
CVD用治具、それを用いた半導体装置の製造方法、およびCVD用治具の製造方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-070824
公開番号（公開出願番号）：特開平10-256161
出願日： 1997年03月07日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 石英製のCVD用治具の耐食性を向上させて表面に付着する膜の剥離による発塵を防止する。【解決手段】 石英製のCVD用治具の表面をアークプラズマトーチ14を用いてあぶり、石英表面のOH濃度を30ppmより多くなるようには増加させない。
請求項（抜粋）：
成膜時にウェーハを所定の雰囲気に曝すために、該ウェーハを載置する石英製のCVD用治具において、前記ウェーハを支持する部分近傍の石英表面のOH濃度が30ppm以下に抑えられていることを特徴とする、CVD用治具。
引用特許：
前のページに戻る
