特許
J-GLOBAL ID:200903035944727578
基板加熱装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
三好 秀和
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
, 鈴木 壯兵衞
, 高久 浩一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-026481
公開番号(公開出願番号):特開2009-187948
出願日: 2009年02月06日
公開日(公表日): 2009年08月20日
要約:
【課題】基板を載置する上面の局所的な温度分布を低減する。【解決手段】基板が載置される上面12aを有する基体12と、上面12aを含む上部121に埋め込まれ上面121に略平行な平面形状を有する第1発熱体14と、上面12aを含む上部121に接合される下部122に埋め込まれ上面12aに直交する方向において、上面12aに対して第1発熱体14よりも下方に配設される平面型の第2発熱体16とを備え、第1発熱体14を基体12の上面12aに投影した第1投影パターン24と、第2発熱体16を上面12aに投影した第2投影パターン26とが重なる重複部を有する。上面12aの面積に対する第1投影パターン24と第2投影パターン26との面積の合計の占有率が85%以上であり、上面12aにおける第2投影パターン26の面積に対する重複部の面積の割合が5%以上である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被加熱物が載置される上面を有する基体と、
前記基体の前記上面を含む上部に埋め込まれ、前記上面に略平行な平面形状を有する第1発熱体と、
前記基体の前記上部に結合される下部に埋め込まれ、前記上面に直交する方向において、前記上面に対して前記第1発熱体よりも下方に配設される平面型の第2発熱体とを備え、
前記第1発熱体を前記基体の前記上面に投影した第1投影パターンと、前記第2発熱体を前記基体の前記上面に投影した第2投影パターンとが互いに部分的に重なる重複部を有し、
前記上面の面積に対する前記第1投影パターンと前記第2投影パターンの面積の合計の占有率が85%以上であり、
前記上面における前記第2投影パターンの面積に対する前記重複部の面積の割合が5%以上である基板加熱装置。
IPC (8件):
H05B 3/00
, H01L 21/205
, H01L 21/306
, H05B 3/20
, H05B 3/12
, H05B 3/10
, H05B 3/74
, H05B 3/14
FI (9件):
H05B3/00 370
, H01L21/205
, H01L21/302 101G
, H05B3/20 393
, H05B3/12 A
, H05B3/10 A
, H05B3/74
, H05B3/20 328
, H05B3/14 B
Fターム (39件):
3K034AA02
, 3K034AA04
, 3K034AA16
, 3K034AA19
, 3K034AA34
, 3K034BA06
, 3K034BB06
, 3K034BB14
, 3K034BC04
, 3K034HA04
, 3K034JA02
, 3K034JA10
, 3K058AA86
, 3K058BA19
, 3K092PP09
, 3K092QA05
, 3K092QB02
, 3K092QB32
, 3K092QB41
, 3K092RF03
, 3K092RF11
, 3K092RF17
, 3K092RF22
, 3K092SS12
, 3K092VV22
, 5F004AA01
, 5F004BB18
, 5F004BB26
, 5F004BB29
, 5F004BB32
, 5F004BD04
, 5F045AA03
, 5F045AA06
, 5F045AA08
, 5F045AC11
, 5F045AC16
, 5F045AF01
, 5F045BB02
, 5F045EM01
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
マルチゾーン抵抗ヒータ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2004-541591
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
-
基板加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-233643
出願人:住友大阪セメント株式会社
-
特開平3-019315
全件表示
前のページに戻る