特許
J-GLOBAL ID:200903035944727578

基板加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄 ,  鈴木 壯兵衞 ,  高久 浩一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-026481
公開番号(公開出願番号):特開2009-187948
出願日: 2009年02月06日
公開日(公表日): 2009年08月20日
要約:
【課題】基板を載置する上面の局所的な温度分布を低減する。【解決手段】基板が載置される上面12aを有する基体12と、上面12aを含む上部121に埋め込まれ上面121に略平行な平面形状を有する第1発熱体14と、上面12aを含む上部121に接合される下部122に埋め込まれ上面12aに直交する方向において、上面12aに対して第1発熱体14よりも下方に配設される平面型の第2発熱体16とを備え、第1発熱体14を基体12の上面12aに投影した第1投影パターン24と、第2発熱体16を上面12aに投影した第2投影パターン26とが重なる重複部を有する。上面12aの面積に対する第1投影パターン24と第2投影パターン26との面積の合計の占有率が85%以上であり、上面12aにおける第2投影パターン26の面積に対する重複部の面積の割合が5%以上である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被加熱物が載置される上面を有する基体と、 前記基体の前記上面を含む上部に埋め込まれ、前記上面に略平行な平面形状を有する第1発熱体と、 前記基体の前記上部に結合される下部に埋め込まれ、前記上面に直交する方向において、前記上面に対して前記第1発熱体よりも下方に配設される平面型の第2発熱体とを備え、 前記第1発熱体を前記基体の前記上面に投影した第1投影パターンと、前記第2発熱体を前記基体の前記上面に投影した第2投影パターンとが互いに部分的に重なる重複部を有し、 前記上面の面積に対する前記第1投影パターンと前記第2投影パターンの面積の合計の占有率が85%以上であり、 前記上面における前記第2投影パターンの面積に対する前記重複部の面積の割合が5%以上である基板加熱装置。
IPC (8件):
H05B 3/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  H05B 3/20 ,  H05B 3/12 ,  H05B 3/10 ,  H05B 3/74 ,  H05B 3/14
FI (9件):
H05B3/00 370 ,  H01L21/205 ,  H01L21/302 101G ,  H05B3/20 393 ,  H05B3/12 A ,  H05B3/10 A ,  H05B3/74 ,  H05B3/20 328 ,  H05B3/14 B
Fターム (39件):
3K034AA02 ,  3K034AA04 ,  3K034AA16 ,  3K034AA19 ,  3K034AA34 ,  3K034BA06 ,  3K034BB06 ,  3K034BB14 ,  3K034BC04 ,  3K034HA04 ,  3K034JA02 ,  3K034JA10 ,  3K058AA86 ,  3K058BA19 ,  3K092PP09 ,  3K092QA05 ,  3K092QB02 ,  3K092QB32 ,  3K092QB41 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092RF17 ,  3K092RF22 ,  3K092SS12 ,  3K092VV22 ,  5F004AA01 ,  5F004BB18 ,  5F004BB26 ,  5F004BB29 ,  5F004BB32 ,  5F004BD04 ,  5F045AA03 ,  5F045AA06 ,  5F045AA08 ,  5F045AC11 ,  5F045AC16 ,  5F045AF01 ,  5F045BB02 ,  5F045EM01
引用特許:
審査官引用 (6件)
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