特許
J-GLOBAL ID：200903035955869315
薄い、安定した、フッ素ドープ処理シリカ層を得る方法、得られた薄い層、およびこれらの眼科光学における応用
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-528590
公開番号（公開出願番号）：特表2005-534995
出願日： 2003年08月07日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：
本発明による方法はSiOxFy層の上に、シリカSiO2および/または金属酸化物保護膜を形成することを包含する。この保護膜は、希ガス、酸素またはこれらの2ないしこれを超える数の混合ガスの陽イオンを形成された層に衝突させることで成り立つイオンビーム支援気相蒸着、または、シリコンないし金属層の陰極スパッタリングとそれに続くシリコンないし金属層の酸化処置により得られる。 反射防止被覆の製造への応用。
請求項（抜粋）：
安定したSiOxFyフッ素ドープ処理シリカの薄い層を得る方法で、
SiOxFyシリコンオキシフルオライド層の上に、SiO2シリカおよび/または金属酸化物保護層を形成することを特徴とし、
ここにその保護層は、希ガスから、酸素から、またはそれらの2ないしこれを超える数のガスからできた陽イオンを、形成された層に衝突させることで成り立つイオンビーム支援気相蒸着により、あるいは金属またはシリコン層の陰極スパッタリングとそれに続く蒸着した金属またはシリコン層の酸化処置を行うことにより形成される、
安定したSiOxFyフッ素ドープ処理シリカの薄い層を得る方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2K009AA09
, 2K009BB11
, 2K009CC03
, 2K009CC26
, 2K009DD04
, 2K009EE00
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA46
, 4K029BC07
, 4K029CA01
, 4K029CA09
, 4K029DB05
, 4K029EA01
