特許
J-GLOBAL ID：200903036045500071

膜形成用組成物、絶縁膜形成用材料およびシリカ系膜

発明者：
西川 通則

西川 通則 について

, 
玉木 研太郎

玉木 研太郎 について

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山田 欣司

山田 欣司 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-157642
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335748
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年12月04日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 塗膜の機械的特性やクラック耐性やTaNとの密着性に優れ、かつ低い比誘電率を示す絶縁膜形成用材料を得る。【解決手段】 (A)下記式(1)化合物と、(B)下記(2)、(3)で表される化合物の群から選ばれた少なくとも1種の化合物とを加水分解縮合して得られる縮合物、及び(C)下記式(4)で表される有機溶媒を含有する膜形成用組成物。HSi(OR1)a・・・・・(1)R2aSi(OR3)4-a・・・・・(2)R4b(R5O)3-bSi-(R8)d-Si(OR6)3-cR7c・・・・・(3)R11O(CHCH3CH2O)8R12・・・・・(4)(式中R2はF原子又は一価の有機基、R1、R3〜R7は一価の有機基、R8はO原子又は-(CH2)n-、R11、R12はH或いは炭素数1〜4のアルキル基又はCH3CO-を示す、a、b、cは0〜2の整数、dは0または1、gは1〜2の整数、nは1〜6の整数を示す。)
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1)で表される化合物およびHSi(OR1)3 ・・・・・(1)(R1は1価の有機基を示す。)(B)(B-1)下記一般式(2)で表される化合物R2aSi(OR3)4-a ・・・・・(2)(R2はフッ素原子または1価の有機基を示し、R3は1価の有機基を示し、aは0〜2の整数を表す。)(B-2)下記一般式(3)で表される化合物 R4b(R5O)3-bSi-(R8)d-Si(OR6)3-cR7c ・・・(3)(R4,R5,R6およびR7は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基を示し、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、0〜2の数を示し、R8は酸素原子または-(CH2)n-で表される基を示し、nは1〜6を、dは0または1を示す。)からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物を加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物ならびに(C)下記一般式(4)で表される溶剤 R11O(CHCH3CH2O)gR12 ・・・・・(4)(R11およびR12は、それぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基またはCH3CO-から選ばれる1価の有機基を示し、gは1〜2の整数を表す。)を含有することを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (13件)：
C09D183/04 ,  C08G 77/00 ,  C08G 77/58 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/04 ,  C08L 83/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/14 ,  C09D185/00 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316 ,  C08L 83:12 ,  C08L 71:02
FI (13件)：
C09D183/04 ,  C08G 77/00 ,  C08G 77/58 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/04 ,  C08L 83/00 ,  C09D183/02 ,  C09D183/14 ,  C09D185/00 ,  H01L 21/312 C ,  H01L 21/316 G ,  C08L 83:12 ,  C08L 71:02
Fターム (66件)：
4J002CH012 ,  4J002CP021 ,  4J002CP041 ,  4J002CP051 ,  4J002CP182 ,  4J002CP191 ,  4J002CP201 ,  4J002ED026 ,  4J002FD312 ,  4J002FD317 ,  4J002GQ05 ,  4J035AA03 ,  4J035AB01 ,  4J035BA16 ,  4J035CA021 ,  4J035CA161 ,  4J035EA01 ,  4J035EB02 ,  4J035HA01 ,  4J035HA05 ,  4J035HA06 ,  4J035HB01 ,  4J035HB02 ,  4J035LA02 ,  4J035LB20 ,  4J038DL021 ,  4J038DL022 ,  4J038DL032 ,  4J038DL041 ,  4J038DL042 ,  4J038DL071 ,  4J038DL072 ,  4J038DL161 ,  4J038DL162 ,  4J038DM022 ,  4J038GA12 ,  4J038GA13 ,  4J038GA14 ,  4J038JA27 ,  4J038JA37 ,  4J038JA38 ,  4J038JA39 ,  4J038JA41 ,  4J038JB01 ,  4J038JC13 ,  4J038JC14 ,  4J038JC22 ,  4J038JC30 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA09 ,  4J038MA07 ,  4J038MA10 ,  4J038NA11 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21 ,  4J038NA26 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F058AA08 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AD05 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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