特許
J-GLOBAL ID：200903036128337024

位相差フィルムの製造方法及びその方法で製造した位相差フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置

発明者：
田坂 公志

田坂 公志 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタオプト株式会社

コニカミノルタオプト株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-271997
公開番号（公開出願番号）：特開2006-154760
出願日： 2005年09月20日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
【課題】 本発明はリターデーション値のフィルム幅手方向の分布、並びにケン化処理の幅手方向の分布の均一性が改善された位相差フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置の提供を課題とする。 【解決手段】 上記課題は、少なくとも二つの芳香族環からなるリターデーション上昇剤を0.1〜15質量%含み、下記式(I)で示されるRoが20〜300nmの範囲であり、式(II)で示されるRtが70〜400nmの範囲である位相差フィルムの製造方法であって、下記(1)〜(3)の製造条件のうち少なくとも一つをとることにより解決した。 (1)最大延伸時の応力が破断点応力に対し50〜98%の範囲での延伸 (2)最大延伸時の応力絶対値が5〜50MPaの範囲での延伸 (3)最大延伸時の応力勾配が0.4〜0.8MPa/%の範囲での延伸 式(I) Ro=(nx-ny)×d 式(II) Rt={(nx+ny)/2-nz}×d【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
少なくとも二つの芳香族環からなるリターデーション上昇剤を0.1〜15質量%含み、かつ延伸処理を行い下記式(I)で示されるRoが20〜300nmの範囲であり、式(II)で示されるRtが70〜400nmの範囲である位相差フィルムの製造方法であって、下記(1)〜(3)の製造条件のうち少なくとも一つの条件をとることを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 (1)最大延伸時の応力が破断点応力に対し50〜98%の範囲で延伸すること (2)最大延伸時の応力絶対値が5〜50MPaの範囲で延伸すること (3)最大延伸時の応力勾配が0.4〜0.8MPa/%の範囲で延伸すること 式(I) Ro=(nx-ny)×d 式(II) Rt={(nx+ny)/2-nz}×d〔式中、nxはフィルム面内の屈折率が最も大きい方向の屈折率、nyはnxに直角な方向でのフィルム面内の屈折率、nzはフィルムの厚み方向の屈折率、dはフィルムの厚み(nm)をそれぞれ表す。〕
IPC (3件)：
G02B 5/30 ,  B29C 55/02 ,  G02F 1/133
FI (3件)：
G02B5/30 ,  B29C55/02 ,  G02F1/13363
Fターム (22件)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BB03 ,  2H049BB49 ,  2H049BB51 ,  2H049BC03 ,  2H049BC22 ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  4F210AA01 ,  4F210AB14 ,  4F210AC05 ,  4F210AG01 ,  4F210AH73 ,  4F210AR01 ,  4F210AR20 ,  4F210QA02 ,  4F210QC03 ,  4F210QC14 ,  4F210QC16 ,  4F210QD01 ,  4F210QD02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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