特許
J-GLOBAL ID：200903036200726405
露光装置のフォーカスモニタ方法およびそれ用いた露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
宮井 暎夫
, 伊藤 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-214663
公開番号（公開出願番号）：特開2006-040951
出願日： 2004年07月22日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：
【課題】 フォトリソグラフィにおいて生産中に露光装置のフォーカス値をモニタする。【解決手段】 ベストフォーカスの異なる2つのパターンのCDフォーカス曲線2a,4a、および、寸法の基準を決める1つのパターンのCDフォーカス曲線12aを形成し、CDフォーカス曲線2a,4aの共通の焦点深度7から決まるフォーカス値の最小値14aと最大値16aの平均値が、生産で設定するベストフォーカス10aに等しくなり、かつ、CDフォーカス曲線12aの寸法12bが、生産で要求される寸法となるように露光装置の露光量を設定し、フォーカス値を変えながら、それぞれのフォーカス値におけるCDフォーカス曲線2a,4aの寸法2b,4bを測定したとき、寸法の差13とフォーカス値15aとの対応関係から検量線を求め、生産におけるウエーハ上の寸法の差13から露光装置のフォーカス値15aをモニタすることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィにより、レジストを塗布したウエーハ上にベストフォーカスの異なる2つのパターン、および、寸法の基準を決める1つのパターンを形成し、前記ベストフォーカスの異なる2つのパターンの共通の焦点深度から決まるフォーカス値の最小値と最大値の平均値が、生産で設定するフォーカス値に等しくなり、かつ、寸法の基準を決める1つのパターンの寸法が、生産で要求される寸法となるように露光装置の露光量を設定し、
前記露光装置のフォーカス値を変えながら、それぞれのフォーカス値における前記ベストフォーカスの異なる2つのパターンの寸法を測定したとき、前記寸法の差とフォーカス値との対応関係から検量線を求め、生産におけるパターン形成の露光時に、前記ベストフォーカスの異なる2つのパターンの寸法の差を測定することにより、前記寸法の差と前記検量線から前記露光装置のフォーカス値をモニタすることを特徴とする露光装置のフォーカスモニタ方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 526Z
, G03F9/02 H
, H01L21/30 516D
5F046AA25
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB17
, 5F046DA02
, 5F046DA14
, 5F046DD03
, 5F046DD06
