電子線を用いたプロセス変動監視システムおよび方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-249569
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059813
出願日： 2001年08月20日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィプロセスにおいて、製品ウェーハレベルで、露光条件の変動(露光量とフォーカスのずれ)を正しくモニタリングする。【解決手段】露光条件の変動に対する寸法特徴量の変化傾向が互いに異なる第1パターン部と第2パターン部の電子線像を取得し、第1パターン部および第2パターン部の寸法特徴量を算出し、これら寸法特徴量を露光条件と寸法特徴量を関連付けるモデルに当てはめることによって露光条件の変動量を算出するようにした。これによって、露光量とフォーカスの正確な変動量を出力する事が可能なプロセス変動監視システムおよび方法を提供する。

請求項（抜粋）：

レジストパターンの電子線像を用いて、露光条件の変動をモニタリングするモニタリング手段を備えたプロセス変動監視システムにおいて、前記モニタリング手段は、前記レジストパターンの電子線像を得る画像検出手段と、該電子線像から、露光条件の変動に対してレジストパターンのエッジ幅または/およびパターン幅を含む寸法特徴量の変化傾向が互いに異なる第1のパターン部と第2のパターン部との寸法特徴量のそれぞれを取得する寸法特徴量検知手段と、露光条件と寸法特徴量とを関係付けるモデルを保有するモデル保有手段と、前記寸法特徴量検出手段によって取得された前記第1のパターン部と第2のパターン部との寸法特徴量を前記モデルに当てはめることによって露光条件の変動量を算出する算出手段とを有することを特徴とするプロセス変動監視システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 G , H01L 21/30 502 V

Fターム (4件)：

5F046AA18 , 5F046DA02 , 5F046DA14 , 5F046DB04

引用特許：

審査官引用 (4件)

露光条件評価用パターンとそれを使用する露光条件評価方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-120144 出願人：株式会社日立製作所
露光方法の最適化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-135491 出願人：ソニー株式会社
結像特性の測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-183797 出願人：株式会社ニコン

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