特許
J-GLOBAL ID：200903036345601457
集束イオンビームの光軸調整方法および集束イオンビーム装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-286760
公開番号（公開出願番号）：特開平10-134746
出願日： 1996年10月29日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：
【要約】【課題】 集束イオンビーム装置のイオン源交換時等の軸合わせ作業を容易にする集束イオンビームの光軸合わせ方法および集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】 イオンビームを発生するイオン源1および引き出し電極2からなるイオン源部3と、前記イオンビームの電流密度の高い中央部分を通過させると共にその電流を測定する第1のアパーチャ5と、コンデンサーレンズ6、第2のアパーチャ7および対物レンズ8を含む荷電粒子光学系9と、前記集束イオンビームを走査する偏向電極16と、前記集束イオンビームを試料に照射したことにより発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器とを有する集束イオンビーム装置の光軸を調整する方法であって、前記イオン源1を前記イオンビームの光軸に直交する方向に移動しながら前記二次荷電粒子検出器で検出される二次荷電粒子の量をモニタし、当該二次荷電粒子の量が極大になるように前記イオン源1の位置を調整する。
請求項（抜粋）：
イオンビームを発生するイオン源および引き出し電極からなるイオン源部と、前記イオンビームの電流密度の高い中央部分を通過させる第1のアパーチャと、前記イオンビームを絞るためのコンデンサーレンズ、前記イオンビームの外形を規制するための第2のアパーチャと更に前記イオンビームを絞り集束イオンビームとする対物レンズよりなる荷電粒子光学系と、前記集束イオンビームを走査する偏向電極と、前記集束イオンビームを試料に照射することにより発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器とを有する集束イオンビーム装置の光軸を調整する方法において、前記イオン源を前記イオンビームの光軸に直交する方向に移動しながら前記集束イオンビームを前記試料表面に照射し、前記照射により発生する二次荷電粒子の量を前記二次荷電粒子検出器で測定し、該二次荷電粒子の量が極大になるように前記イオン源の位置を設定することを特徴とする集束イオンビームの光軸調整方法。
IPC (4件)：
H01J 37/04
, H01J 37/252
, H01J 37/305
, H01J 37/317
H01J 37/04 B
, H01J 37/252 B
, H01J 37/305 Z
, H01J 37/317 D
