特許
J-GLOBAL ID：200903036376262928

液晶ディスプレイの製造方法

発明者：
小俣 與一

小俣 與一 について


出願人/特許権者：
ミクロ技研株式会社

ミクロ技研株式会社 について


代理人 (2件)： 白崎 真二 ,  阿部 綽勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-136425
公開番号（公開出願番号）：特開2005-316310
出願日： 2004年04月30日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】 液晶ディスプレイの生産効率を向上させると共に、設備面での省力化を図ることができる液晶ディスプレイの製造方法を提供すること。【解決手段】 基板上にトランジスタ素子が複数整列配置され、且つ画素電極及び共通電極が設けられた液晶ディスプレイの製造方法であって、半導体層、ゲート絶縁層、及び層間絶縁層をグラビア印刷法を用いて形成した。【効果】 従来のように真空チャンバー内で薄膜形成をする必要がなく、連続的に基板上に薄膜を形成することができる。また、印刷による転写を使用することから、エッジング等や化学的な感光剤の処理が不要となり、環境を汚さない。そのため、タクトタイムの短縮化を伴う液晶ディスプレイの生産効率の向上を図ることができ、また、真空チャンバーやフォトレジストが不要となることから、設備面の省力化及び設備設置スペースの縮小化を図ることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上にトランジスタ素子が複数整列配置され、且つ画素電極及び共通電極が設けられた液晶ディスプレイの製造方法であって、 半導体層、ゲート絶縁層、及び層間絶縁層をグラビア印刷法を用いて形成したことを特徴とする液晶ディスプレイの製造方法。
IPC (8件)：
G02F1/1368 ,  G02F1/1343 ,  H01L21/288 ,  H01L21/312 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/336 ,  H01L21/768 ,  H01L29/786
FI (9件)：
G02F1/1368 ,  G02F1/1343 ,  H01L21/288 Z ,  H01L21/312 B ,  H01L29/78 617J ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/78 618A ,  H01L21/88 B ,  H01L21/90 Q
Fターム (69件)：
2H092HA04 ,  2H092HA06 ,  2H092JA24 ,  2H092MA10 ,  2H092MA31 ,  2H092NA26 ,  2H092NA27 ,  2H092PA01 ,  4M104AA09 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB13 ,  4M104BB16 ,  4M104DD31 ,  4M104DD51 ,  4M104DD78 ,  4M104GG09 ,  4M104GG10 ,  4M104GG14 ,  5F033GG04 ,  5F033HH08 ,  5F033HH11 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033HH17 ,  5F033HH20 ,  5F033PP00 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ74 ,  5F033RR21 ,  5F033RR22 ,  5F033SS00 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX33 ,  5F033XX34 ,  5F058AC04 ,  5F058AF06 ,  5F058AF10 ,  5F058AH02 ,  5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110DD21 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110FF27 ,  5F110GG02 ,  5F110GG12 ,  5F110GG13 ,  5F110GG15 ,  5F110GG42 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK09 ,  5F110HK21 ,  5F110HK25 ,  5F110HK32 ,  5F110HL07 ,  5F110NN02 ,  5F110NN27 ,  5F110NN33 ,  5F110NN72 ,  5F110QQ16
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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