特許
J-GLOBAL ID:200903036491163720
接点材料の表面洗浄装置及び接点材料の表面洗浄方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-226034
公開番号(公開出願番号):特開2002-035707
出願日: 2000年07月26日
公開日(公表日): 2002年02月05日
要約:
【要約】【課題】 接点材料の表面全面を洗浄することができ、しかも、多数個の接点材料を連続的に効率よく洗浄することができる接点材料の表面洗浄装置を提供する。【解決手段】 絶縁材料で形成された反応容器1の片側を吹き出し口2として開放する。希ガスと反応性ガスをプラズマ生成用ガスとして反応容器1に導入すると共に電極3、4間に交流又はパルス状の電圧を印加することによって大気圧近傍の圧力下で反応容器1内にグロー放電を発生させる。このグロー放電により生成されるプラズマ5をプラズマジェットとして反応容器1の吹き出し口2から吹き出して接点材料6の表面に供給することによって接点材料6の汚染物を除去する。プラズマ5を接点材料6の表面の全面に亘って容易に供給することができる。
請求項(抜粋):
絶縁材料で形成された反応容器の片側を吹き出し口として開放し、希ガスと反応性ガスをプラズマ生成用ガスとして反応容器に導入すると共に大気圧近傍の圧力下で反応容器内にグロー放電を発生させ、このグロー放電により生成されるプラズマをプラズマジェットとして反応容器の吹き出し口から吹き出して接点材料の表面に供給することによって接点材料の表面の汚染物を除去することを特徴とする接点材料の表面洗浄装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
3B116AA46
, 3B116AB14
, 3B116BB21
, 3B116BB88
, 3B116BB89
, 3B116BC01
, 3B116CC05
, 5G023AA01
, 5G023BA11
, 5G023CA24
, 5G023CA50
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開平3-047579
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-344735
出願人:松下電工株式会社
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密封開閉器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-315348
出願人:松下電工株式会社, 松下電器産業株式会社
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