特許

J-GLOBAL ID：200903036555106050

静電チャック及び半導体処理装置並びにそれらに好適な絶縁材料

発明者： 石井 守 ,  石田 弘徳 ,  塚本 恵三
出願人/特許権者： 日本セメント株式会社
代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-142434
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335438
出願日： 1997年05月30日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：

【要約】【課題】吸着した試料の汚染が少なく、熱伝導性に優れた吸着面を有する静電チャックを提供する。【解決手段】電極2上に絶縁層1を有し、該電極2に電圧を印加することにより該絶縁層1上に試料10を静電吸着する静電チャックにおいて、該絶縁層1は、窒化アルミニウム中に体積割合で3.2〜20%の4a族元素の窒化物又は炭化物の粒子を略均一に分散させてなる。

請求項（抜粋）：

電極上に絶縁層を有し、該電極に電圧を印加することにより該絶縁層上に試料を静電吸着する静電チャックにおいて、該絶縁層は、窒化アルミニウム中に体積割合で3.2〜20%の4a族元素の窒化物又は炭化物の粒子を略均一に分散させてなることを特徴とする静電チャック。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  C04B 35/581

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  C04B 35/58 104 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• セラミックス製静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-193020   出願人：信越化学工業株式会社
• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-073282   出願人：京セラ株式会社
• 導電性窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-083544   出願人：川崎炉材株式会社
• 半導体基板保持装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-281375   出願人：株式会社東芝