特許
J-GLOBAL ID:200903036564892718

高純度コバルトおよびその製造方法ならびに高純度コバルトターゲット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤島 洋一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-338288
公開番号(公開出願番号):特開2002-105633
出願日: 2000年09月29日
公開日(公表日): 2002年04月10日
要約:
【要約】【課題】 銅などの不純物の含有量を低減した高純度コバルトおよびその製造方法ならびに高純度コバルトターゲットを提供する。【解決手段】 銅などの不純物を含むコバルトを塩酸溶液に溶解し、塩酸濃度が0.1〜3kmol/m3の塩化コバルト水溶液を作製する。次いで、塩化コバルト水溶液にコバルトを入れ、不活性ガスを吹き込みつつ攪拌し、塩化コバルト水溶液に含まれる銅を1価イオンとする。続いて、塩化コバルト水溶液を陰イオン交換樹脂の充填されたカラムに流し込む。このとき、1価イオンの銅は陰イオン交換樹脂に吸着されるが、コバルトは陰イオン交換樹脂に吸着されない。よって、銅を塩化コバルト水溶液から分離することができる。そののち、塩化コバルト水溶液を蒸発乾固させ、水素雰囲気中において623〜873Kの温度で加熱し、コバルトを生成する。
請求項(抜粋):
純度が99.99質量%以上であり、不純物である銅の濃度が50質量ppb以下であることを特徴とする高純度コバルト。
IPC (4件):
C23C 14/34 ,  C22B 3/42 ,  C22B 23/00 ,  C22C 19/07
FI (4件):
C23C 14/34 A ,  C22C 19/07 M ,  C22B 3/00 M ,  C22B 23/04
Fターム (5件):
4K001AA07 ,  4K001DB36 ,  4K029BA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC07
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • コバルトの精製方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-357366   出願人:株式会社ジャパンエナジー
  • コバルトの精製方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-075382   出願人:株式会社ジャパンエナジー
  • 高純度元素の製法
    公報種別:公表公報   出願番号:特願平7-507046   出願人:ジョンソンマッセイエレクトロニクス,インコーポレイティド
引用文献:
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