特許
J-GLOBAL ID:200903036689596576
分布帰還型半導体レーザ装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小笠原 史朗
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-155383
公開番号(公開出願番号):特開2004-356571
出願日: 2003年05月30日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
【課題】本発明の目的は、反射戻り光による影響を受けることなく、かつ高い単一波長発振確率を有する分布帰還型(DFB)半導体レーザ装置を提供可能とすることである。【解決手段】本発明に係る分布帰還型半導体レーザ装置は,基板1と、基板上に形成された多層構造とを備え、多層構造は、少なくとも活性層5を有する光導波領域と、光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域の略全面に形成される第1の回折格子2と、光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域のレーザ光を出射する端面近傍に形成される第2の回折格子9とを含み、第1の回折格子2は、部分的に周期構造の位相が不連続である位相シフト部18を有している。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板と、
前記基板上に形成された多層構造とを備え、
前記多層構造は、
少なくとも活性層を有する光導波領域と、
前記光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域の略全面に形成される第1の回折格子と、
前記光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域のレーザ光を出射する端面近傍に形成される第2の回折格子とを含み、
前記第1の回折格子は、部分的に周期構造の位相が不連続である位相シフト部を有する、分布帰還型半導体レーザ装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (15件):
5F073AA07
, 5F073AA22
, 5F073AA45
, 5F073AA61
, 5F073AA64
, 5F073AA74
, 5F073AA83
, 5F073BA02
, 5F073CA12
, 5F073CA14
, 5F073CB02
, 5F073CB06
, 5F073CB22
, 5F073EA03
, 5F073EA26
引用特許:
審査官引用 (7件)
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半導体レーザおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-241169
出願人:三菱電機株式会社
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特開平2-263491
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分布帰還型半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-341967
出願人:日本電気株式会社
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分布帰還型半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-240030
出願人:富士通株式会社
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特開平3-110885
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特開平2-263491
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特開平3-110885
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