特許
J-GLOBAL ID:200903036689596576

分布帰還型半導体レーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小笠原 史朗
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-155383
公開番号(公開出願番号):特開2004-356571
出願日: 2003年05月30日
公開日(公表日): 2004年12月16日
要約:
【課題】本発明の目的は、反射戻り光による影響を受けることなく、かつ高い単一波長発振確率を有する分布帰還型(DFB)半導体レーザ装置を提供可能とすることである。【解決手段】本発明に係る分布帰還型半導体レーザ装置は,基板1と、基板上に形成された多層構造とを備え、多層構造は、少なくとも活性層5を有する光導波領域と、光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域の略全面に形成される第1の回折格子2と、光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域のレーザ光を出射する端面近傍に形成される第2の回折格子9とを含み、第1の回折格子2は、部分的に周期構造の位相が不連続である位相シフト部18を有している。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板と、 前記基板上に形成された多層構造とを備え、 前記多層構造は、 少なくとも活性層を有する光導波領域と、 前記光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域の略全面に形成される第1の回折格子と、 前記光導波領域の共振方向に周期構造を有しており、当該光導波領域のレーザ光を出射する端面近傍に形成される第2の回折格子とを含み、 前記第1の回折格子は、部分的に周期構造の位相が不連続である位相シフト部を有する、分布帰還型半導体レーザ装置。
IPC (2件):
H01S5/12 ,  H01S5/323
FI (2件):
H01S5/12 ,  H01S5/323
Fターム (15件):
5F073AA07 ,  5F073AA22 ,  5F073AA45 ,  5F073AA61 ,  5F073AA64 ,  5F073AA74 ,  5F073AA83 ,  5F073BA02 ,  5F073CA12 ,  5F073CA14 ,  5F073CB02 ,  5F073CB06 ,  5F073CB22 ,  5F073EA03 ,  5F073EA26
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る