放電プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八木田茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-329908
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148300
出願日： 1999年11月19日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】装置の運転中におけるプラズマ処理室の壁への付着物の堆積やそこからの異物の混入を実質的に避けることができるように構成した放電プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空チャンバ内でプラズマを利用して被処理物を処理するようにした放電プラズマ処理装置において、プラズマを利用して被処理物の処理の行われる真空チャンバ内空間の側方周囲に補助真空チャンバが一体的に連通して設けられ、補助真空チャンバの内壁における付着物が真空チャンバの上記空間内へ入り込むのを引き戻すように構成される。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内でプラズマを利用して被処理物を処理するようにした放電プラズマ処理装置において、プラズマを利用して被処理物の処理の行われる真空チャンバ内空間の側方周囲に補助真空チャンバを一体的に連通させて設け、補助真空チャンバの内壁における付着物が真空チャンバの上記空間内へ入り込むのを引き戻すように構成したことを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 , C23C 14/00 , C23C 16/44 , C23F 4/00 , H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (6件)：

H05H 1/46 L , C23C 14/00 B , C23C 16/44 B , C23F 4/00 A , H01L 21/31 C , H01L 21/302 B

Fターム (27件)：

4K029CA05 , 4K029DA01 , 4K029DC00 , 4K029FA09 , 4K030FA01 , 4K030KA00 , 4K057DA16 , 4K057DA20 , 4K057DD01 , 4K057DM21 , 4K057DM24 , 4K057DM28 , 4K057DM38 , 4K057DN01 , 5F004AA01 , 5F004AA06 , 5F004AA15 , 5F004BA08 , 5F004BA20 , 5F004BC05 , 5F004CA09 , 5F045AA08 , 5F045BB01 , 5F045BB14 , 5F045DP03 , 5F045EH14 , 5F045EH16

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平1-109724
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-001668 出願人：日新電機株式会社
プラズマエッチング装置に於ける防着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-038674 出願人：日本真空技術株式会社

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