特許
J-GLOBAL ID：200903036881315661
投影光学系及びその製造方法、露光装置及びその製造方法、並びにマイクロデバイスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-055754
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258131
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：
【要約】【課題】 主として、残存収差が良好に抑えられ、極めて優れた光学特性を有する投影光学系を効率よく製造することができる投影光学系の製造方法を提供する。【解決手段】 投影光学系を組み立てる組立工程S1と、波面収差を計測する波面収差計測工程S2と、計測結果をツェルニケ関数に対応させて波面収差の各成分を算出する波面収差成分算出工程S3と、波面収差成分算出工程で得られた波面収差の各成分に応じて投影光学系PL中の光学部材を調整する第1及び第2の調整工程S4,S5とを有する。第2の調整工程S4の前には、第2の調整工程において調整された後の性能を予測する性能予測工程が実行され、性能予測工程で予測された性能に基づいて判断する判断工程をさらに有する。
請求項（抜粋）：
第1面の像を第2面上に結像させる投影光学系の製造方法において、1つ又は複数の光学部材がそれぞれ収納された複数の鏡筒を組み立てて投影光学系を得る組立工程と、組み立てられた前記投影光学系の波面収差を計測する波面収差計測工程と、前記波面収差計測工程で計測された前記波面収差を所定の関数に対応させ、該関数を成分分解して波面収差の各成分を算出する波面収差成分算出工程と、前記波面収差成分算出工程で得られた波面収差の各成分に応じて前記複数の鏡筒を調整する調整工程とを有することを特徴とする投影光学系の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 7/02
, G01M 11/02
, G03F 7/22
, H01L 21/027
G02B 7/02 C
, G01M 11/02 B
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 516 A
2G086HH06
, 2H044AC01
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB25
, 5F046DA13
