特許
J-GLOBAL ID：200903036972448834
構造異性体ポリ(アルキルエチレン)
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-019218
公開番号（公開出願番号）：特開平9-324013
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1997年12月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ポリ(アルキルエチレン)の好ましい工業材料特性を保存しながらポリ(アルキルエチレン)の加工特性の改良。【解決手段】 ポリ(アルキルエチレン)を0.05〜5質量%の単官能、二官能および多官能モノマーと共に、場合によりペルオキシドの存在で、放射線照射法、溶融反応法または固相反応法により反応させることにより製造される。
請求項（抜粋）：
ポリ(アルキルエチレン)のH-およびY-構造、および2・10-3より8・10-3(kJ/ モル・度)までのψ指数を有することを特徴とする改良された加工性および低下した不安定性を有する構造異性体ポリ(アルキルエチレン)において、【数1】ψ= Tm・△Hm・β・ζ・Tg-1(kJ/ モル・度)〔Tm=融点(K) △Hm=融解熱(kJ/ モル)β=25°Cにおける線熱膨張係数(1/度)ζ=閾値(ISO 1131による MFI測定における構造異性体ポリ(アルキルエチレン)のロープ直径/変形されないポリ(アルキルエチレン)のロープ直径)Tg=ガラス転移温度(K)〕の関係式を満たし、構造式、【化1】(R1 =C1 〜C4 アルキル;R2 =H;t/u =0.03〜30;R3 =C1 〜C4 アルキルまたはH;R4 =H,C1 〜C4 アルキル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニル;R5 =HまたはC1 〜C4 アルキル; y+z=150〜3000;Ξ=アクリル酸、C4 〜C12-アクリル酸誘導体、C3 〜C21-アリル化合物、C8 〜C14-ジアクリレート、C7 〜C16-ジアリル化合物、C4 〜C10-ジエン、C9 〜C15-ジメタアクリレート、C7 〜C10-ジビニル化合物、C3 〜C16-モノビニル化合物、C12〜C17-ポリアクリレート、C15〜C21-ポリメタクリレートおよび/またはC9 〜C12-トリアリル化合物に基づくポリマー橋状部分)のH-構造高分子を有するポリ(アルキルエチレン)、および構造式、【化2】(R1 =C1 〜C4 アルキル;R2 =H;R3 =C1 〜C4 アルキルまたはH;R4 =H,C1 〜C4 アルキル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニル;R5=HまたはC1 〜C4 アルキル; y+z=150〜3000; t/u =0.03〜30;w=250〜5000;Ξ=アクリル酸、C4 〜C12-アクリル酸誘導体、C3 〜C21-アリル化合物、C8 〜C14-ジアクリレート、C7 〜C16-ジアリル化合物、C4 〜C10-ジエン、C9 〜C15-ジメタアクリレート、C7 〜C10-ジビニル化合物、C3 〜C16-モノビニル化合物、C12〜C17-ポリアクリレート、C15〜C21-ポリメタクリレートおよび/またはC9 〜C12-トリアリル化合物に基づくポリマー橋状部分)のY-構造高分子を有するポリ(アルキルエチレン)、であり、かつH-またはY-構造を有するポリ(アルキルエチレン)におけるポリマー橋状部分は0.1〜5質量%になる、前記の改良された加工性および低下した不安定性を有する構造異性体ポリ(アルキルエチレン)。
IPC (9件)：
C08F 10/00
, C08F 2/44
, C08J 5/18 CES
, C08K 5/098
, C08K 5/13
, C08K 5/3435
, C08K 5/3492
, C08K 5/36
, C08L 23/26
C08F 10/00
, C08F 2/44 A
, C08J 5/18 CES
, C08K 5/098
, C08K 5/13
, C08K 5/3435
, C08K 5/3492
, C08K 5/36
, C08L 23/26
