特許
J-GLOBAL ID：200903036986183426
有機ELパネルおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉田 研二
, 石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-275702
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071554
出願日： 2003年07月16日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】マスクの位置決め時の削りかすやダストの悪影響を減じる。【解決手段】画素電極30の周辺を覆って、枠状の絶縁膜である第2平坦化膜(内側)32aおよび柱状で背の高い第2平坦化膜(外側)32bを形成する。その後、有機発光層36をマスク蒸着する際には、第2平坦化膜(外側)32bが存在する部分のみがマスクと接触する。従って、マスクからの削りかすやダスト発生を低減することができ、削りかすやダストが発生しても、第2平坦化膜(外側)32bと第2平坦化膜(内側)32aの間にトラップすることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
1画素の発光領域に対応する大きさの画素電極とこれに対向する対向電極間に、少なくとも有機発光層を有する有機EL素子をマトリクス配置した有機ELパネルであって、
前記画素電極の周辺端部を覆う枠型の絶縁膜と、
この絶縁膜の外側に設けられ、前記絶縁膜より厚みの大きな凸部と、
を有することを特徴とする有機ELパネル。
IPC (4件)：
H05B33/22
, H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/14
H05B33/22 Z
, H05B33/10
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007EA00
, 3K007FA01
