特許
J-GLOBAL ID:200903037072744680
集束方法およびシステム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 稔 (外9名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-309915
公開番号(公開出願番号):特開2001-236915
出願日: 2000年09月04日
公開日(公表日): 2001年08月31日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 対物レンズの電流変化に関連するヒステリシス現象を回避し、高速応答の焦点調整を提供する。【解決手段】本発明の実施の形態によれば、試験片上に存在する電位を補償するために荷電粒子ビームを制御する方法が提供され、この方法は、試験片上に存在する電位を補償するために試験片上で荷電粒子ビームを移動する段階と、少なくとも1つの副産物および/または映像信号を生成するために試験片からの後方散乱粒子を測定する段階と、映像信号を測定する段階と、ビームエネルギーを変更する段階と、異なるビームエネルギーを用いてスコアを解析する段階と、解析に基づいたビームエネルギーを調節する段階と備えている。
請求項(抜粋):
荷電粒子ビームを自動的に集束する方法であって、a)所定の焦点設定を有する対物レンズからの適切な作動距離を試験片にもたらす段階と;b)前記試験片上で荷電粒子ビームを移動する段階と;c)少なくとも1つの副産物および/または信号を生成するために前記試験片からの後方散乱粒子を測定する段階と;d)前記信号をスコア化する段階と;e)前記ビームエネルギーを変更する段階と;f)異なるビームエネルギーを用いて前記スコアを解析する段階と;g)前記解析に基づいてビームエネルギーを調節する段階と;を備えることを特徴とする方法。
IPC (3件):
H01J 37/21
, G01N 23/225
, G21K 5/04
FI (3件):
H01J 37/21 B
, G01N 23/225
, G21K 5/04 C
引用特許:
審査官引用 (14件)
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特開平4-269613
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特開平3-022336
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電子線式検査方法及びその装置並びに半導体の製造方法及びその製造ライン
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-193143
出願人:株式会社日立製作所
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特開平4-269613
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特開平3-022336
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特開平3-252035
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電子ビーム検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-097567
出願人:ソニー株式会社
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電子ビームテスタ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-138578
出願人:浜松ホトニクス株式会社
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寸法検査方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-036904
出願人:株式会社東芝
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多機能試料表面分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-075539
出願人:科学技術振興事業団
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走査電子顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-124345
出願人:株式会社日立製作所
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ウェ-ハ形状自動観察方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-002875
出願人:セイコーインスツルメンツ株式会社
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特開平4-092348
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特開昭63-202835
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