特許
J-GLOBAL ID:200903037072744680

集束方法およびシステム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外9名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-309915
公開番号(公開出願番号):特開2001-236915
出願日: 2000年09月04日
公開日(公表日): 2001年08月31日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 対物レンズの電流変化に関連するヒステリシス現象を回避し、高速応答の焦点調整を提供する。【解決手段】本発明の実施の形態によれば、試験片上に存在する電位を補償するために荷電粒子ビームを制御する方法が提供され、この方法は、試験片上に存在する電位を補償するために試験片上で荷電粒子ビームを移動する段階と、少なくとも1つの副産物および/または映像信号を生成するために試験片からの後方散乱粒子を測定する段階と、映像信号を測定する段階と、ビームエネルギーを変更する段階と、異なるビームエネルギーを用いてスコアを解析する段階と、解析に基づいたビームエネルギーを調節する段階と備えている。
請求項(抜粋):
荷電粒子ビームを自動的に集束する方法であって、a)所定の焦点設定を有する対物レンズからの適切な作動距離を試験片にもたらす段階と;b)前記試験片上で荷電粒子ビームを移動する段階と;c)少なくとも1つの副産物および/または信号を生成するために前記試験片からの後方散乱粒子を測定する段階と;d)前記信号をスコア化する段階と;e)前記ビームエネルギーを変更する段階と;f)異なるビームエネルギーを用いて前記スコアを解析する段階と;g)前記解析に基づいてビームエネルギーを調節する段階と;を備えることを特徴とする方法。
IPC (3件):
H01J 37/21 ,  G01N 23/225 ,  G21K 5/04
FI (3件):
H01J 37/21 B ,  G01N 23/225 ,  G21K 5/04 C
引用特許:
審査官引用 (14件)
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