プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-022453
公開番号（公開出願番号）：特開2002-231637
出願日： 2001年01月30日
公開日（公表日）： 2002年08月16日
要約：

【要約】【課題】マイクロ波の伝播に悪影響を与えることなく平面アンテナ部材を効率的に冷却することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】天井部が開口されて内部が真空引き可能になされた処理容器22と、前記処理容器の天井部の開口に気密に装着された絶縁板66と、被処理体Wを載置するために前記処理容器内に設けられた載置台24と、前記絶縁板の上方に設けられて所定のピッチで形成された複数のマイクロ波放射孔88からプラズマ発生用のマイクロ波を前記絶縁板を透過させて前記処理容器内へ導入する平面アンテナ部材70と、前記平面アンテナ部材の上方に設けられて前記マイクロ波の波長を短縮するための遅波材72と、前記処理容器内へ所定のガスを導入するガス供給手段38,40とを有するプラズマ処理装置において、前記平面アンテナ部材の内部には熱媒体を流すための熱媒体通路90が形成されている。これにより、マイクロ波の伝播に悪影響を与えることなく平面アンテナ部材を効率的に冷却する。

請求項（抜粋）：

天井部が開口されて内部が真空引き可能になされた処理容器と、前記処理容器の天井部の開口に気密に装着された絶縁板と、被処理体を載置するために前記処理容器内に設けられた載置台と、前記絶縁板の上方に設けられて所定のピッチで形成された複数のマイクロ波放射孔からプラズマ発生用のマイクロ波を前記絶縁板を透過させて前記処理容器内へ導入する平面アンテナ部材と、前記平面アンテナ部材の上方に設けられて前記マイクロ波の波長を短縮するための遅波材と、前記処理容器内へ所定のガスを導入するガス供給手段とを有するプラズマ処理装置において、前記平面アンテナ部材の内部には熱媒体を流すための熱媒体通路が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 , C23C 16/511 , H01L 21/3065 , H05H 1/46

FI (5件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 H , C23C 16/511 , H05H 1/46 B , H01L 21/302 B

Fターム (30件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4G075FC13 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA01 , 4K030KA14 , 4K030KA22 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 5F004BA20 , 5F004BB14 , 5F004BB32 , 5F004BC08 , 5F004BD01 , 5F045AA09 , 5F045AC01 , 5F045AC11 , 5F045AC15 , 5F045BB02 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH08 , 5F045EJ04 , 5F045EJ05 , 5F045GB05

引用特許：

審査官引用 (4件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-165874 出願人：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-335307 出願人：株式会社日立製作所
プラズマ処理方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-036521 出願人：株式会社日立製作所

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