特許
J-GLOBAL ID：200903037194702864

位相反転マスク及びその製造方法

発明者：
申 仁均

申 仁均 について


出願人/特許権者：
三星電子株式会社

三星電子株式会社 について


代理人 (1件)： 服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-162512
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069061
出願日： 1997年06月19日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】【課題】 ハーフトーン領域を具備する位相反転マスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 位相反転領域と位相無反転領域とを含む位相反転マスクにおいて、位相無反転領域に隣接して入射光の位相を一定範囲内で変化させるハーフトーン領域を具備している。これにより、PSM 基板40の位相無反転領域を経る光の一部を相殺干渉させることにより位相反転領域と位相無反転領域とを経る光により形成されるパターン間のCD差を減らしうる。
請求項（抜粋）：
位相反転領域と位相無反転領域とを含む位相反転マスクにおいて、前記位相無反転領域に隣接して入射光の位相を一定範囲内で変化させるハーフトーン領域を具備することを特徴とする位相反転マスク。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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