永久パターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：廣田浩一 , 流良広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-054488
公開番号（公開出願番号）：特開2005-311305
出願日： 2005年02月28日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】感光層上に結像させる像の歪みを抑制することにより、パッケージ基板を含むプリント配線基板分野における永久パターン(絶縁膜、ソルダーレジストパターンなどの保護膜)を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法の提供。【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成した後、該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法である。該非球面は、トーリック面であるのが好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成した後、該感光層に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。

IPC (4件)：

H01L21/027 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/24

FI (5件)：

H01L21/30 529 , G03F7/004 501 , G03F7/004 512 , G03F7/09 501 , G03F7/24 Z

Fターム (27件)：

2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC32 , 2H025BC42 , 2H025BC51 , 2H025CA01 , 2H025CA14 , 2H025CA18 , 2H025CA28 , 2H025CA31 , 2H025CA48 , 2H025CB52 , 2H025CC20 , 2H025DA01 , 2H025DA19 , 2H025DA20 , 2H025FA29 , 2H097AA03 , 2H097AB08 , 2H097BA10 , 2H097CA17 , 2H097LA09 , 5F046BA07 , 5F046CA03 , 5F046CB02

引用特許：

出願人引用 (3件)

露光ヘッド及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-149886 出願人：富士写真フイルム株式会社, 富士写真光機株式会社
画像焼付装置およびこれを備えた写真処理装置、ならびに画像焼付方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-120068 出願人：ノーリツ鋼機株式会社
マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-532621 出願人：ジョンソンケニスシー

審査官引用 (4件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-145076 出願人：富士写真フイルム株式会社
レーザ装置、露光ヘッド、及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-149888 出願人：富士写真フイルム株式会社, 富士写真光機株式会社
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びめっきレジストの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-055902 出願人：日立化成工業株式会社

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