特許
J-GLOBAL ID:200903037240155369
表面処理銅箔の製造方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人 田中・岡崎アンドアソシエイツ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-073426
公開番号(公開出願番号):特開2008-231514
出願日: 2007年03月20日
公開日(公表日): 2008年10月02日
要約:
【課題】環境負荷が低く、耐薬品性を備えた粗化表面処理銅箔の製造方法を提供する。【解決手段】銅電解液中に下記の化学構造の化合物を添加する表面処理銅箔の製造方法。(式中、R1は炭素数2以下のアルキル基、R2はアミノ基、フェニルアゾ基のいずれかである。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
硫酸性の銅電解液に銅箔を接触して、該銅箔の表面に銅粒の析出物を形成することにより銅箔表面を粗面化する粗化処理工程を備える表面処理銅箔の製造方法において、
銅電解液中に下記の化学構造を有する添加剤を含むことを特徴とする表面処理銅箔の製造方法。
IPC (3件):
C25D 7/06
, C25D 3/38
, H05K 3/38
FI (3件):
C25D7/06 A
, C25D3/38 101
, H05K3/38 B
Fターム (21件):
4K023AA19
, 4K023BA06
, 4K023CB28
, 4K023DA02
, 4K023DA06
, 4K023DA07
, 4K024AA09
, 4K024AB01
, 4K024AB19
, 4K024BA09
, 4K024BB11
, 4K024BC02
, 4K024CA01
, 4K024CA02
, 4K024CA06
, 4K024DB04
, 4K024DB10
, 4K024GA16
, 5E343BB67
, 5E343GG02
, 5E343GG04
引用特許:
前のページに戻る