特許
J-GLOBAL ID：200903037329713020

欠陥検査方法及びその装置

発明者：
芝田 行広

芝田 行広 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-330113
公開番号（公開出願番号）：特開2003-130808
出願日： 2001年10月29日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：
【要約】【課題】照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。【解決手段】上記した課題を解決するために、DUVからVUV領域の複数の波長のレーザ光を照明する構成とした。これにより、レーザ光の時間的・空間的コヒーレンスも低減させた。また、VUV光とDUV光とを照明した場合に発生する、色収差を補正するために、それぞれの波長の光を同軸照明とし、補正しきれない色収差は、検出光路を波長に対応した2系統に分岐し、それぞれの波長の像面にイメージセンサを配置して検出するようにした。これにより、解像度が高く、欠陥検査上のノイズも低減した画像を検出することを可能にした。
請求項（抜粋）：
パターンが形成された試料に偏光光を照射し、該照射による前記試料からの反射光のうち正反射光の光量を低減した光学像を形成し、該形成した光学像を検出し、該検出して得た信号を用いて前記試料に形成されたパターンの欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J
Fターム (24件)：
2G051AA51 ,  2G051AA90 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA05 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB09 ,  2G051BB20 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CC12 ,  2G051EC02 ,  2G051ED04 ,  2G051ED08 ,  4M106AA01 ,  4M106BA06 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB08 ,  4M106DB09 ,  4M106DB20
引用特許：
審査官引用 (12件)
  • パターン欠陥検査方法及びその装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-206866   出願人：株式会社日立製作所
  • 特開昭62-073141
  • 特開昭62-073141
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM