特許
J-GLOBAL ID：200903037348304964
ガラス基板並びにこれを使用したフォトマスク用ブランクス及びフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人はるか国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-109891
公開番号（公開出願番号）：特開2005-289762
出願日： 2004年04月02日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】 等方性のウエットエッチングによって潜傷が発生しないガラス基板並びにこれを使用したフォトマスク用ブランクス及びフォトマスクを提供する。【解決手段】 ガラス基板10の表面には大小の傷やクラックが存在するので(a)、表面を精密研磨工程により研磨した後(b)、(c)、異方性エッチングにより表層を所定量除去し、潜傷を取り除く(d)、(e)。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
等方性ウエットエッチングにより製品を得るためのガラス基板であって、異方性エッチングにより表層を所定量除去したことを特徴とするガラス基板。
IPC (3件)：
C03C15/00
, G03F1/08
, G03F1/14
C03C15/00 Z
, C03C15/00 A
, G03F1/08 A
, G03F1/14 A
2H095BB03
, 2H095BB27
, 2H095BC26
, 4G059AA08
, 4G059AC03
, 4G059BB01
, 4G059BB12
